[发明专利]狭缝镀膜装置

说明书

本申请提出一种狭缝镀膜装置，包括：法兰、阴极丝、阴极丝固定结构，其中，法兰的个数为两个，两个法兰平行放置，用于固定待镀膜的真空管，阴极丝固定在真空管的中心位置，阴极丝固定结构设置在阴极丝上，用于固定阴极丝；其中，阴极丝上每间隔预设距离设置一个阴极丝固定结构。由此，采用阴极丝固定结构将阴极丝稳定固定，以保证阴极丝处于拉直且不短路的状态，实现了在真空管内壁进行镀膜过程中等离子体辉光放电时阴极丝处于拉紧状态且不会被拉断，解决了现有技术中对于6mm以下尺寸的狭缝真空管进行镀膜时，出现阴极丝与真空管之间短路、阴极丝断裂等现象影响对真空管进行镀膜的技术问题，从而保证了镀膜能够正常进行。

技术领域

本申请涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种狭缝镀膜装置。

背景技术

同步辐射光源逐渐向高亮度，低发射度发展，从而要求磁铁孔径尽可能小，这样导致真空管尺寸非常小。此外，为了避免束流引起的同步辐射光直接照射在真空管的管壁，一般在真空管侧面附加有光子通道。然而受到磁铁空间限制，光子通道一般为高度较小的扁平状矩形结构。例如，第四代同步辐射光源的光子通道的高度只有6mm，另外，受到磁铁体积的限制，单根真空管长度一般需要大于1米，这导致真空流导较小。传统上采用离散式真空泵的方式无法获得束流所需真空度，必须在真空管内壁镀一层0.5～2um的吸气剂薄膜提供分布式抽气的能力，以获得更高的真空度。同时，相对于传统不锈钢、无氧铜、铝材等材料，吸气剂薄膜具有较低的光子解析系数，较低的电子解析系数，较低的二次电子发射系数，这些优点使得束流引起的动态气载相对较低，对于正电荷粒子加速器还可以有效抑制电子云效应。

对于尺寸较大的管道内壁镀膜，如大于10mm，一般通过一定方式将阴极丝固定在真空管的中心位置，采用直流磁控溅射方法在真空管内壁镀吸气剂薄膜。但是，采用传统的阴极丝固定方式对6mm以下尺寸的狭缝真空管内壁进行镀膜时，会出现阴极丝与真空管之间短路、阴极丝断裂等影响继续镀膜的现象。另外，阴极丝直径一般为1～2mm，真空管变形等原因，可能导致阴极丝与真空管的管壁之间的距离小于2.5mm，使得等离子体很难起辉放电或者均匀分布于真空盒内部，从而最终导致无法成膜的技术问题。

发明内容

本申请旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。

为此，本申请提出一种狭缝镀膜装置，以解决现有技术中对于6mm以下尺寸的狭缝真空管进行镀膜时，出现阴极丝与真空管之间短路等现象，从而影响对真空管进行镀膜的技术问题。

本申请提出了一种狭缝镀膜装置，包括：

法兰，所述法兰的个数为两个，两个法兰平行放置，用于固定待镀膜的真空管；

阴极丝，所述阴极丝固定在所述真空管的中心位置；

阴极丝固定结构，所述阴极丝固定结构设置在所述阴极丝上，用于固定所述阴极丝；其中，所述阴极丝上每间隔预设距离设置一个所述阴极丝固定结构。

可选地，所述装置，还包括：

夹紧件，所述夹紧件的个数为两个，分别固定在两个法兰的外侧壁，用于拉紧且固定所述阴极丝。

可选地，所述夹紧件为内部中空的圆柱体，并且在所述夹紧件的中心位置处设置有两个螺钉孔以固定所述阴极丝。

可选地，所述装置，还包括：

设置在所述阴极丝一端的重物，用于将所述阴极丝拉直。

可选地，所述重物的重量处于0.5kg至1kg之间。

可选地，所述预设距离为80mm至120mm的距离区间。

可选地，采用直流磁控溅射方法对所述真空管内壁进行镀膜，其中，沉积温度为80～100℃，流量计的流量为0.5～2sccm，溅射功率为10～25W，气体压强为5～15Pa，磁场强度为500～750Gaus s，沉积时间为4～8h。