[发明专利]一种AMOLED显示屏结构及其制备方法

说明书

本发明涉及微电子技术领域，特别涉及一种AMOLED显示屏结构及其制备方法，包括电容区域结构，所述电容区域结构包括玻璃层、第一金属层、第一绝缘层、第二绝缘层、第二金属层、第三绝缘层、第三金属层、平坦层、第四金属层、画素定义层和阴极金属层；通过在电容区域结构的画素定义层上设置一个第二过孔，在第二过孔中填充阴极金属层，在画素定义层设置第二过孔，能够实现阴极方块与阴极走线搭接，使得在一帧时间内，部分时间阴极走线赋值给电源负极(即VSS)电位，实现画面显示，部门时间阴极走线赋值给触控探测信号，实现自容触控感应，进而实现内嵌式触控AMOLED显示技术。

技术领域

本发明涉及微电子技术领域，特别涉及一种AMOLED显示屏结构及其制备方法。

背景技术

现如今，屏幕不再单纯只为用户传递图片、视频等咨询，科技研发人员不断赋予显示屏新的附加功能，例如内嵌式触控显示技术。在现有液晶显示器的显示技术上，集成触控功能已被广泛应用于中小尺寸面板，而在有源矩阵有机发光二极体(Active-matrixOrganic Light Emitting Diode，缩写为AMOLED)显示技术上内嵌触控识别功能技术还处于研发阶段。现有AMOLED显示屏一般搭配外挂式触控显示屏，将触控单元设置在AMOLED的显示外部，这样不利于AMOLED显示屏的轻薄化。因此，有必要提供一种AMOLED显示屏结构及其制备方法，能够实现内嵌式触控AMOLED显示技术，进而实现AMOLED显示屏的轻薄化。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是：提供一种AMOLED显示屏结构及其制备方法。

为了解决上述技术问题，本发明采用的第一种技术方案为：

一种AMOLED显示屏结构，包括电容区域结构；

所述电容区域结构包括玻璃层、第一金属层、第一绝缘层、第二绝缘层、第二金属层、第三绝缘层、第三金属层、平坦层、第四金属层、画素定义层和阴极金属层，所述第一金属层、第一绝缘层、第二绝缘层、第二金属层、第三绝缘层、第三金属层、平坦层、第四金属层、画素定义层和阴极金属层依次设置在所述玻璃层表面；

所述第三绝缘层上设有一个第一过孔，所述第三金属层填充于所述第一过孔中，所述第一过孔中填充的第三金属层与所述第二金属层远离所述玻璃层的一侧面接触，所述画素定义层上设有一个第二过孔，所述阴极金属层填充于所述第二过孔中，所述第二过孔中填充的阴极金属层与所述第四金属层远离玻璃层的一侧面接触。

本发明采用的第二种技术方案为：

一种AMOLED显示屏结构的制备方法，包括以下步骤：

S1、提供一电容区域结构的玻璃层，且在玻璃层表面上覆盖有第一金属层；

S2、形成一第一绝缘层，且覆盖于所述第一金属层表面；

S3、形成一第二绝缘层，且覆盖于所述第一绝缘层表面；

S4、形成一第二金属层，且覆盖于所述第二绝缘层表面；

S5、形成一第三绝缘层，覆盖于所述第二金属层表面且与所述第二绝缘层接触；

S6、于所述第三绝缘层中形成一个第一过孔，在第一过孔中形成第三金属层，且第三金属层与第二金属层远离玻璃层的一侧面接触；

S7、形成一平坦层，覆盖于所述第三金属层表面且与第三绝缘层接触；

S8、形成一第四金属层，且覆盖于所述平坦层表面；

S9、形成一画素定义层，覆盖于所述第四金属层表面且与所述平坦层接触；

S10、于所述画素定义层中形成一个第二过孔，在第二过孔中形成阴极金属层，且阴极金属层与第四金属层远离玻璃层的一侧面接触。