[发明专利]光检测器件及电子装置在审
申请号: | 202010552822.6 | 申请日: | 2014-06-20 |
公开(公告)号: | CN111799290A | 公开(公告)日: | 2020-10-20 |
发明(设计)人: | 桝田佳明;宫波勇树;阿部秀司;平野智之;山口征也;蛯子芳树;渡边一史;荻田知治 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;H01L31/0203;H01L31/0232;H01L31/10;H04N5/225;H04N5/359;H04N5/369;H04N5/374;H04N9/04;G02B1/118 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 李晗;曹正建 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 检测 器件 电子 装置 | ||
1.一种光检测器件,其包括:
半导体基板,所述半导体基板的光接收表面包含第一防反射部;以及
第一光电转换区域,所述第一光电转换区域位于所述半导体基板中并包含第一光电转换元件,
其中,所述第一防反射部形成在所述第一光电转换区域中,并位于所述第一光电转换元件上方。
2.如权利要求1所述的光检测器件,其还包括第二光电转换区域,所述第二光电转换区域位于所述半导体基板中并包含第二光电转换元件,且所述第二光电转换区域邻近所述第一光电转换区域,所述半导体基板的所述光接收表面还包含第二防反射部,所述第二防反射部形成在所述第二光电转换区域中,并位于所述第二光电转换元件上方。
3.如权利要求2所述的光检测器件,其还包括沟槽,所述沟槽布置在所述第一光电转换区域和所述第二光电转换区域之间。
4.如权利要求3所述的光检测器件,其还包括遮光膜,所述遮光膜布置在所述第一光电转换区域和所述第二光电转换区域之间,并位于所述沟槽上方。
5.如权利要求2所述的光检测器件,其中,在所述沟槽中填充有金属遮光部。
6.如权利要求2所述的光检测器件,其还包括:
第一滤色器,所述第一滤色器布置在所述第一防反射部上方;和
第二滤色器,所述第二滤色器布置在所述第二防反射部上方。
7.如权利要求2所述的光检测器件,其中,所述第一防反射部和所述第二防反射部的突出部的尺寸彼此不同。
8.如权利要求3所述的光检测器件,其中,所述沟槽中填充有绝缘材料。
9.如权利要求8所述的光检测器件,其中,在所述绝缘材料中填充有遮光材料。
10.如权利要求2所述的光检测器件,其中,在所述第一光电转换区域和所述第二光电转换区域之间的没有形成所述第一防反射部和所述第二防反射部的部分中设置有平坦部。
11.如权利要求10所述的光检测器件,其中,在所述平坦部上设置有遮光膜。
12.一种包括如权利要求1-11中任一项所述的光检测器件的电子装置。
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
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