[发明专利]一种高温釉中金的烧制工艺在审
| 申请号： | 202010548215.2 | 申请日： | 2020-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN111635256A | 公开（公告）日： | 2020-09-08 |
| 发明（设计）人： | 黄少晨 | 申请（专利权）人： | 淄博汉青陶瓷有限公司 |
| 主分类号： | C04B41/86 | 分类号： | C04B41/86;C04B41/88;C04B33/24;C04B33/34 |
| 代理公司： | 淄博汇川知识产权代理有限公司 37295 | 代理人： | 李时云 |
| 地址： | 255100 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 高温 釉中金 烧制 工艺 | ||
1.一种高温釉中金的烧制工艺，其特征是其釉烧温度为1000℃-1050℃，釉烧时降温采取快速降温的方式。降温速率为180-200℃/min。
2.如权利要求1所述的一种高温釉中金的烧制工艺，其特征是所述工艺的步骤包括制坯、上釉、素烧、描金或印金、釉烧。
3.如权利要求1所述的一种高温釉中金的烧制工艺，其特征是所述釉烧温度为1050℃。
4.如权利要求1所述的一种高温釉中金的烧制工艺，其特征是所述釉烧温度为1000℃。
5.如权利要求1所述的一种高温釉中金的烧制工艺，其特征是所述釉烧时降温时的降温速率为190℃/min。
6.如权利要求1所述的一种高温釉中金的烧制工艺，其特征是其采用电窑烧制。
7.如权利要求3所述的一种高温釉中金的烧制工艺，其特征是其釉烧的温控程序为：
从室温—670℃，升温速率为420-440℃/h；
670℃—790℃，升温速率为110-130℃/h；
790℃—1050℃，升温速率为130-150℃/h；
1050℃保温10min后采取快速降温的方式以180-200℃/min降温。
8.如权利要求7的所述一种高温釉中金的烧制工艺，其特征是其釉烧的温控程序为：
从室温—670℃，升温速率为433℃/h；
670℃—790℃，升温速率为120℃/h；
790℃—1000℃，升温速率为140℃/h；
1050℃保温10min后采取快速降温的方式以190℃/min降温。
9.如权利要求1的所述的一种高温釉中金的烧制工艺，其特征是其釉烧时的快速降温通过调节散热孔和窑门开的大小以及烟筒来实现。
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