[发明专利]一种高耐热低热膨胀系数的聚酰亚胺薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种高耐热低热膨胀系数的聚酰亚胺薄膜，其特征在于，所述聚酰亚胺薄膜包含如下结构式：

其中，R为芳香族二胺单体除去二个氨基后的残基，n为大于零的整数；

所述芳香族二胺单体为4，4'-二氨基二苯醚、2，2'-双(三氟甲基)-4，4'-二氨基联苯、4，4'-二氨基二苯砜、4，4'-双(2-三氟甲基-4-氨基苯氧基)苯或4，4'-双(2-三氟甲基-4-氨基苯氧基)联苯中的一种或者多种的组合。

2.根据权利要求1所述高耐热低热膨胀系数的聚酰亚胺薄膜，其特征在于，所述聚酰亚胺薄膜的玻璃化转变温度为380℃以上，线性热膨胀系数为15ppm/K以下。

3.一种根据权利要求1-2任一项所述高耐热低热膨胀系数的聚酰亚胺薄膜制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1、将偏苯三酸酐酰氯和2，5-二氨基嘧啶-4(3H)-酮按照2-4:1的摩尔比进行酰胺化反应得到含嘧啶酮的四羧酸二酐单体，再将该含嘧啶酮的四羧酸二酐单体与芳香族二胺单体进行酰胺化反应，得到聚酰胺酸；

S2、将步骤S1中得到的聚酰胺酸在脱水剂和催化剂的条件下进行亚胺化反应，成膜后，即得到所述聚酰亚胺薄膜。

4.根据权利要求3所述高耐热低热膨胀系数的聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，所述含嘧啶酮的四羧酸二酐单体与芳香族二胺单体的摩尔量之比为1:1-1.2。

5.根据权利要求3或4所述高耐热低热膨胀系数的聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，所述脱水剂为乙酸酐、丙酸酐或三氟乙酸酐中的一种或者多种的组合；所述催化剂为吡啶、甲基吡啶、喹啉或异喹啉中的一种或者多种的组合。

6.根据权利要求3或4所述高耐热低热膨胀系数的聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，所述“成膜”具体包括：将聚酰亚胺稀释后涂覆成膜，加热干燥，得到所述聚酰亚胺薄膜。

7.根据权利要求5所述高耐热低热膨胀系数的聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，所述“成膜”具体包括：将聚酰亚胺稀释后涂覆成膜，加热干燥，得到所述聚酰亚胺薄膜。

8.根据权利要求6所述高耐热低热膨胀系数的聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，所述“加热干燥”具体包括：在60-80℃下干燥0.5-1h，在180-200℃下干燥1-2h，在320-350℃下干燥0.5-1h。

9.根据权利要求7所述高耐热低热膨胀系数的聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，所述“加热干燥”具体包括：在60-80℃下干燥0.5-1h，在180-200℃下干燥1-2h，在320-350℃下干燥0.5-1h。