[发明专利]用于防止EGP堵塞的过滤和检测机构的系统和方法

权利要求书

1.一种后处理系统，包括：

选择性催化还原单元，所述选择性催化还原单元包括催化剂；

还原剂注入器，所述还原剂注入器被配置成在所述选择性催化还原单元上游的注入位置注入还原剂；

过滤器，所述过滤器定位于所述后处理系统内的所述注入位置下游以及所述选择性催化还原单元上游，其中，所述过滤器被配置成捕获所述还原剂中的污染物并允许过滤后的还原剂通过所述过滤器；并且

其中，所述选择性催化还原单元被配置成从所述过滤器接收所述过滤后的还原剂。

2.根据权利要求1所述的后处理系统，其中，所述过滤器包括金属丝网过滤器。

3.根据权利要求1所述的后处理系统，其中，所述过滤器定位于分解反应器管内，所述分解反应器管在分解室和所述选择性催化还原单元之间延伸。

4.根据权利要求1所述的后处理系统，其中，所述过滤器定位于分解室内。

5.根据权利要求1所述的后处理系统，其中，所述过滤器包括不锈钢过滤器。

6.根据权利要求1所述的后处理系统，其中，所述过滤器包括网孔密度在每平方英寸300到500个网孔之间的金属丝网。

7.根据权利要求1所述的后处理系统，还包括传感器，所述传感器定位于所述选择性催化还原单元下游并被配置成测量排气背压。

8.根据权利要求7所述的后处理系统，还包括控制器，所述控制器被配置成接收由所述传感器测量的所述排气背压，并基于由所述传感器测量的所述排气背压来确定所述过滤器是否堵塞。

9.根据权利要求1所述的后处理系统，其中，所述过滤器包括多个对准元件，所述对准元件被配置成使所述过滤器对准在分解反应器管内。

10.根据权利要求1所述的后处理系统，其中，所述过滤器被配置成捕获包括钠和/或钠沉积物的污染物。

11.根据权利要求1所述的后处理系统，其中，所述过滤后的还原剂包括微量的钠或钠沉积物。

12.根据权利要求1所述的后处理系统，其中，所述过滤器包括：

基部；

过滤网，所述过滤网耦合到所述基部；和

多个对准元件，所述对准元件设置在所述基部上，并且被配置成使所述过滤器对准在分解反应器管内。

13.根据权利要求1所述的后处理系统，其中，所述过滤器通过机械密封件连接到分解反应器管。

14.一种能够定位于分解反应器管内的过滤器组件，所述过滤器组件包括：

基部；

过滤网，所述过滤网耦合到所述基部，其中，所述过滤网被配置成捕获还原剂中的污染物并允许过滤后的还原剂穿过所述过滤网；和

多个对准元件，所述对准元件被配置成使所述过滤器组件对准在所述分解反应器管内。

15.根据权利要求14所述的过滤器组件，还包括法兰和垫圈连接件，所述法兰和垫圈连接件被配置成将所述过滤器组件密封在所述分解反应器管内。

16.根据权利要求14所述的过滤器组件，其中，所述过滤网包括不锈钢过滤网。

17.根据权利要求14所述的过滤器组件，其中，所述过滤网具有在每平方英寸300到500个网孔之间的网孔密度。

18.根据权利要求14所述的过滤器组件，还包括传感器，所述传感器定位于选择性催化还原单元下游并被配置成确定排气背压。