[发明专利]显示基板及其制备方法

权利要求书

1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：

在衬底之上形成像素支撑层，所述像素支撑层用于支撑掩膜版；

在所述像素支撑层上放置掩膜版，通过所述掩膜版在所述衬底之上形成发光结构层；形成发光结构层包括：依次形成空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、发光层；

移除所述掩膜版；

去除所述像素支撑层；

依次形成空穴阻挡层、电子传输层和电子注入层、阴极、光提取层和氟化锂层；

在所述发光结构层上形成封装层。

2.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述在衬底之上形成像素支撑层，包括：

在所述衬底之上沉积光刻胶薄膜；

通过光源照射，使所述光刻胶薄膜的部分区域形成曝光区域，使所述光刻胶薄膜另一部分区域形成未曝光区域；

通过显影工艺，将所述未曝光区域的光刻胶薄膜去除，将所述曝光区域的光刻胶薄膜保留，所述曝光区域的光刻胶薄膜形成所述像素支撑层。

3.根据权利要求2所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述像素支撑层的材料采用负性感光光刻胶。

4.根据权利要求3所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述像素支撑层的竖截面呈倒梯形。

5.根据权利要求4所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述发光结构层在所述像素支撑层处断裂，使所述像素支撑层至少一侧的侧壁暴露。

6.根据权利要求5所述的显示基板的制备方法，其特征在于，去除所述像素支撑层，包括：

将所述像素支撑层浸入剥离液中，使所述剥离液与所述像素支撑层暴露的侧壁接触，将所述像素支撑层从所述衬底之上剥离。

7.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板由上述权利要求1至6任一所述的显示基板的制备方法制备而成，所述显示基板包括衬底，所述衬底包括多个显示区以及位于相邻显示区之间的非显示区，所述显示区之上形成有发光结构层，所述非显示区在相邻发光结构层之间形成凹槽。

8.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，所述发光结构层之上设置有将所述发光结构层和所述凹槽覆盖的封装层。