[发明专利]悬臂梁及其制造方法在审
申请号: | 202010541479.5 | 申请日: | 2020-06-15 |
公开(公告)号: | CN111717880A | 公开(公告)日: | 2020-09-29 |
发明(设计)人: | 王宁;徐峰;薛飞 | 申请(专利权)人: | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
主分类号: | B81B3/00 | 分类号: | B81B3/00;B81C1/00;G01L1/04 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 季向冈;王昊 |
地址: | 230031 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 悬臂梁 及其 制造 方法 | ||
1.一种适用于力探测实验的悬臂梁,包括沿第一方向(y)延伸的主体,和一体地形成于所述主体的所述第一方向的一端的固定端部,该固定端部沿着与所述第一方向大致垂直的第二方向(x)延伸,其特征在于,所述悬臂梁包括沿所述第二方向延伸的纳米微桥,所述悬臂梁的主体通过所述纳米微桥与所述固定端部连接。
2.如权利要求1所述的悬臂梁,其特征在于,所述主体的所述第一方向的一端在所述纳米微桥的中间位置与所述纳米微桥连接,所述纳米微桥在其两端与所述固定端部连接。
3.如权利要求1或2所述的悬臂梁,其特征在于,所述纳米微桥在所述第一方向的宽度为50nm至1000nm,所述悬臂梁在与所述第一方向和第二方向均垂直的第三方向(z)的厚度为500nm至2000nm。
4.如权利要求1或2所述的悬臂梁,其特征在于,所述悬臂梁的材料为单晶硅。
5.如权利要求1或2所述的悬臂梁,其特征在于,所述力探测实验使用光干涉法来测力,所述主体的所述第一方向的另一端为自由端,其具有一个大面积部。
6.如权利要求1至5的任意一项所述的悬臂梁,其特征在于,所述固定端部在所述第一方向上与所述主体相反的一侧一体地具有任意形状的基片。
7.一种制备如权利要求1至6的任意一项所述的扭曲式悬臂梁的方法,其特征是应用聚焦离子束刻蚀技术对已有悬臂梁进行刻蚀加工,实现扭转式悬臂梁结构,包括以下步骤:
以商业可购买的单晶硅悬臂梁作为母体,聚焦离子束的入射方向为大致与所述第一方向(y)和所述第二方向(x)大致垂直的方向,应用聚焦离子束的刻蚀功能,在母体悬臂梁上刻蚀出扭转悬臂梁图形主体;
应用聚焦离子束的减薄功能,对所述微桥的第一方向(y)厚度进行减薄处理;
应用聚焦离子束的刻蚀功能,切断扭转悬臂梁的所述微桥与基片的连接以及扭转悬臂梁与母体悬臂梁的其它多余部分的连接,将悬臂梁释放。
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