[发明专利]一种量子点组合物及其制备方法、量子点图案化方法以及图案化量子点固态膜有效
| 申请号: | 202010540624.8 | 申请日: | 2020-06-15 |
| 公开(公告)号: | CN111607234B | 公开(公告)日: | 2022-12-06 |
| 发明(设计)人: | 赵金阳 | 申请(专利权)人: | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号: | C08L87/00 | 分类号: | C08L87/00;C08K9/10;C08K9/04;C08K3/30;C08K3/32;C09K11/02;C09K11/70;C09K11/88;B82Y20/00;B82Y30/00;B82Y40/00;G02F1/13357;G02F1/1335;G03F7/00 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 何辉 |
| 地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 量子 组合 及其 制备 方法 图案 以及 固态 | ||
本申请公开了一种量子点组合物及其制备方法,通过对量子点粒子外部修饰金属有机框架材料和/或共价有机框架材料,来保护量子点粒子的配体,制备工序简单,有利于提升量子点粒子的稳定性。此外,本申请还公开了一种量子点图案化方法,以及通过量子点图案化方法制得的图案化量子点固态膜,以解决目前利用电泳技术对量子点进行图案化的方法中存在的制备效率较低的问题。
技术领域
本申请涉及显示技术领域,尤其涉及一种量子点组合物及其制备方法、量子点图案化方法以及图案化量子点固态膜。
背景技术
量子点(Quantum Dots,QD)是一种半导体纳米材料,当其受到光或电的刺激会发出有色光线,具有小尺寸、荧光发射峰窄、色度纯、亮度高、稳定性好的优点,在平板显示、固态照明、生物标记、光伏太阳能等领域均具有广泛的应用前景。
在量子点发光器件的制造过程中,量子点的图案化是关键工序之一。目前,量子点的图案化一般通过喷墨打印工艺、转印工艺或光刻工艺来实现,其中,喷墨打印工艺和转印工艺具有工序繁琐、制备效率低、重复性差、不适合量产等问题,而光刻工艺中的固化工序和显影工序均会对量子点的稳定性造成负面影响。现有一种利用电泳技术对量子点进行图案化的方法,其是对电极进行图案化设计,当电极通电时,使携带有电性配体的量子点聚集于电极表面,从而形成特定形状的图案,具有制备工序简单的优点,但该方法的缺点是:由于存在配体交换、交叉污染等问题,所以每次只能对一种发光颜色的量子点进行图案化,不能同时加工两种以上发光颜色的量子点,制备效率较低。
发明内容
本申请实施例提供了一种量子点组合物及其制备方法、量子点图案化方法以及图案化量子点固态膜,以解决目前利用电泳技术对量子点进行图案化的方法中存在的制备效率较低的问题。
第一方面,本申请提供了一种量子点组合物,包括多个量子点粒子以及用于包裹所述多个量子点粒子的保护介质,所述保护介质的材质为具有多孔隙的金属有机框架材料和/或共价有机框架材料;所述多个量子点粒子中的任一量子点粒子携带有单一电性的一个或多个配体,所述多个量子点粒子中各量子点粒子的配体的电性均相同,且所述多个量子点粒子的发光颜色均相同;所述保护介质的各个孔隙至少包裹有一个量子点粒子,以限制各个量子点粒子的配体处于所述保护介质的孔隙间。
在本申请的一些实施例中,所述多个量子点粒子中的任一量子点粒子的结构为单核结构、核壳结构或复合结构。
第二方面,本申请提供了另一种量子点组合物的制备方法,用于制备第一方面中所述量子点组合物,包括如下步骤:
分别制备保护介质溶液和包含多个量子点粒子的量子点溶液;
向所述保护介质溶液中加入所述量子点溶液,充分搅拌,以使所述保护介质的各个孔隙至少包裹有一个量子点粒子,得到混合液;以及
将所述混合液离心,去除上清液以收集沉淀物,所述沉淀物即为量子点组合物。
在本申请的一些实施例中,所述向所述保护介质溶液中加入所述量子点溶液,是向所述保护介质溶液中逐滴加入所述量子点溶液,直至所述量子点与所述保护介质的质量比为1:1~100,则停止滴加所述量子点溶液。
第三方面,本申请提供了一种量子点图案化方法,包括如下步骤:
提供一承载基板,在所述承载基板的一面上制备形成一图案化电极层;
制备量子点墨水,所述量子点墨水包括第一量子点组合物和第二量子点组合物,所述第一量子点组合物和所述第二量子点组合物采用第二方面中所述量子点组合物的制备方法制得,所述第一量子点组合物的配体电性与所述第二量子点组合物的配体电性相反,且所述第一量子点组合物的发光颜色与所述第二量子点组合物的发光颜色不同;
将所述量子点墨水涂覆于所述图案化电极层背离所述承载基板的一面上;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TCL华星光电技术有限公司,未经TCL华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010540624.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





