[发明专利]激光加密防伪转移纸及其制备方法有效
| 申请号: | 202010536135.5 | 申请日: | 2020-06-12 |
| 公开(公告)号: | CN111645436B | 公开(公告)日: | 2022-05-24 |
| 发明(设计)人: | 张凤凤;林胜发;郭晓声;巩运军;姜丽明;赵振虎;王艳玲 | 申请(专利权)人: | 山东泰宝包装制品有限公司 |
| 主分类号: | B41M3/14 | 分类号: | B41M3/14;B41M5/025;G09F3/00;D21H19/84;D21H21/48;G06F21/60;G06Q30/00 |
| 代理公司: | 青岛发思特专利商标代理有限公司 37212 | 代理人: | 耿霞 |
| 地址: | 256407 *** | 国省代码: | 山东;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 激光 加密 防伪 转移 及其 制备 方法 | ||
1.一种激光加密防伪转移纸,其特征在于:包括从上到下依次设置的表涂层、转移涂层、激光加密信息层、铝层、转移胶层、白卡纸层和背涂层,所述的激光加密信息层包含隐藏信息,隐藏信息在点光源下显现;
所述的激光加密防伪转移纸的制备方法,包括以下步骤:
(1)选择单面电晕的PET基膜,在电晕面涂布转移涂层;
(2)激光加密信息层模压版的制作:
首先制作隐藏图案,将隐藏图案放置于极坐标系,根据系统抽样方法,随机抽取N(N=n*n)个像素点,其中,n≥4,分别计算每个像素点到坐标系零点的距离ρ和夹角角度θ,根据每个像素点到坐标系零点的距离,得出一个n*n的矩阵,最终得出空频灰度图矩阵G;根据每个像素点到坐标系零点的夹角,得出一个n*n的矩阵,最终得出角度灰度图矩阵H,根据空频灰度图矩阵G和角度灰度图矩阵H,在光刻机中完成激光加密信息模压层的制版工作,得到激光加密信息层模压版;
(3)使用模压机将激光加密信息复制到转移涂层上面,形成激光加密信息层;
(4)在激光加密信息层上面真空蒸镀铝层;
(5)选择白卡纸,在纸背面涂布背涂乳液;
(6)将经过激光加密的转移膜铝面涂布转移胶,与白卡纸正面复合在一起;
(7)将PET基膜剥离,其余层结构全部转移至白卡纸表面;
(8)在转移涂层表面涂布适应印刷的清漆层,形成表涂层;
(9)分切、横切,形成单张激光加密防伪转移纸;
所述的激光加密信息层模压版的制作包括以下步骤:
(1)根据设计文件,制作隐藏图案,建立极坐标系,将图案放置于极坐标系中零点处;
(2)图案分辨率为a*b,图案中共由a*b个像素点组成,根据系统抽样方法,随机抽取N(N=n*n)个像素点,其中,n≥4,使用计算机计算每个像素点的坐标值(x1,y1)、(x2,y2)、(x3,y3)、……(xN,yN),以及每个像素点与零点的距离(ρ1、ρ2、ρ3、……ρN);
(3)根据极坐标系公式x=ρcosθ,y=ρcosθ,分别计算每个像素点与零点夹角角度(θ1、θ1、θ1、……θN);
(4)L为观察距离,是固定参量,β为光栅角度,d为光栅栅距,λ为激光器波长,根据tanβ=ρ/L,可以求得β,根据光栅方程sinβ=λ/d,可以求得光栅栅距d,此时可以建立每个光栅晶格的二维参量(d1,θ1)、(d2,θ2)、(d3,θ3)……(dN,θN);
(5)根据N个光栅晶格的光栅栅距d,可以得到一个矩阵如下:
d1,d2,……………………dn
dn+1,dn+2,………………d2*n
………………………………
dn*(n-1)+1,dn*(n-1)+2,……dn*n
计算得出d的最大值dmax和最小值dmin,最小值对应灰度值0,最大值对应灰度值255,按照此对应关系,可将N个d的值对应成另一个由灰度值组成的矩阵G,此矩阵便构成一幅灰度图,如下:
G1,G2,……………………Gn
Gn+1,Gn+2,………………G2*n
………………………………
Gn*(n-1)+1,Gn*(n-1)+2,……Gn*n;
(6)根据了N个光栅晶格的角度θ,可以得到一个矩阵如下:
θ1,θ2,……………………θn
θn+1,θn+2,………………θ2*n
………………………………
θn*(n-1)+1,θn*(n-1)+2,……θn*n
计算得出θ的最大值θmax和最小值θmin,最小值对应灰度值0,最大值对应灰度值255,按照此对应关系,可将N个θ的值对应成另一个由灰度值组成的矩阵H,此矩阵便构成一幅灰度图,如下:
H1,H2,……………………Hn
Hn+1,Hn+2,………………H2*n
………………………………
Hn*(n-1)+1,Hn*(n-1)+2,……Hn*n;
(7)根据所述光刻空频灰度矩阵G与光栅角度灰度矩阵H,制作一个曝光单元,上述曝光单元尺寸是边长为n/R毫米的正方形,其中R为光刻图的分辨率,10dpi<R<50800dpi;
(8)将步骤(7)中的曝光单元阵列成设计尺寸,经过光刻工艺制作在光刻胶版上,经显影电镀后得到激光加密信息层模压版。
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