[发明专利]一种用于电解铜箔剥离和表面处理的多功能装置

说明书

本发明公开一种用于电解铜箔剥离和表面处理的多功能装置，包括阴极辊电解池以及收卷机构，所述阴极辊一侧设置有剥离机构，所述电解池一侧设置有表面处理机构；所述表面处理机构包括第一处理机构、第二处理机构和第三处理机构；所述第一处理机构、第二处理机构和第三处理机构分别包括有揉搓部、喷射机构以及储液仓；所述揉搓部一侧设置所述喷射机构，所述揉搓部另一侧设置所述储液仓；所述揉搓部包括刷辊组和渗液垫，所述刷辊组和渗液垫对应设置；所述第一处理机构、第二处理机构和第三处理机构上下阶梯型设置。本发明使阴极辊表面光洁度高，电解铜箔在表面处理时减少与空气接触的时间，整体装置结构紧凑，提高电解铜箔表面处理的质量。

技术领域

本发明涉及电解铜箔技术领域，特别是涉及一种用于电解铜箔剥离和表面处理的多功能装置。

背景技术

电解铜箔是覆铜板(CCL)及印制电路板(PCB)、锂离子电池制造的重要的材料。在当今电子信息产业高速发展中，电解铜箔被称为电子产品信号与电力传输、沟通的“神经网络”，2002年起，我国印制电路板的生产值已经越入世界第三位，作为PCB的基板材料—覆铜板也成为世界上第三大生产国。由此也使我国的电解铜箔产业在近几年有了突飞猛进的发展。锂电池中铜箔对锂电池性能会造成很大的影响，表面粗糙度大的电解铜箔与石墨等负极活性物质的接触性差，易产生涂布活性物质的脱落，直接影响电池寿命，锂电池的铜箔外观必须洁净、平整，不允许有任何条纹、表面凹陷、斑点，否则容易导致铜箔附着力下降，涂布出现漏箔点，两面涂布量不等；现有技术电解铜箔在剥离工序中，阴极辊没有铜箔的侧面没有专门的清洗装置且此处一直与空气接触，影响阴极辊表面的光洁度进而影响铜箔的生产质量，此外，现有技术在电解铜箔的表面处理工序中是靠电解铜箔依次进出粗化槽、固化槽、第一水洗槽、防氧化槽以及第二水洗槽进行表面处理，不仅设备水平占地面积大而且电解铜箔在两个槽之间的位置仍处于空气中，使得电解铜箔多次进出处理槽造成电解铜箔表面与空气多次接触，极大影响电解铜箔的最终产品质量，因此，需设计一种用于电解铜箔剥离和表面处理的多功能装置以解决现有技术存在的问题。

发明内容

本发明的目的是提供一种用于电解铜箔剥离和表面处理的多功能装置，以解决上述现有技术存在的问题，使阴极辊表面光洁度高，电解铜箔在表面处理时减少与空气接触的时间，整体装置结构紧凑，提高电解铜箔表面处理的质量。

为实现上述目的，本发明提供了如下方案：本发明提供一种用于电解铜箔剥离和表面处理的多功能装置，包括阴极辊电解池以及收卷机构，所述阴极辊一侧设置有剥离机构，所述电解池一侧设置有表面处理机构；

所述表面处理机构包括第一处理机构、第二处理机构和第三处理机构；

所述第一处理机构、第二处理机构和第三处理机构分别包括有揉搓部、喷射机构以及储液仓；所述揉搓部一侧设置所述喷射机构，所述揉搓部另一侧设置所述储液仓；所述揉搓部包括刷辊组和渗液垫，所述刷辊组和渗液垫对应设置；

所述第一处理机构、第二处理机构和第三处理机构上下阶梯型设置。

优选的，所述第一处理机构包括第一上处理部和第一下处理部，所述第一上处理部包括第一支架，所述第一支架底端轴接有第一刷辊组，所述第一刷辊组上方设置有第一喷射机构，所述第一下处理部包括第二支架，所述第二支架远离所述电解池的一侧和所述第二支架顶端分别布设有所述渗液垫，所述渗液垫下方布设有第一储液仓、第二储液仓。

优选的，所述第二处理机构包括第二上处理部和第二下处理部；所述第二上处理部包括第三支架，所述第三支架靠近所述电解池的一侧轴接有第二刷辊组，所述第二上处理部的底端布设有所述渗液垫，所述第二上处理部内设置有斜板，所述斜板上固接有第二喷射机构；所述第二下处理部包括第四支架，所述第四支架顶端轴接有第三刷辊组，所述第三刷辊组下方布设有第三储液仓、第四储液仓，所述第四支架远离所述电解池的一侧布设有所述渗液垫。