[发明专利]一种纳米晶NdGaN硬质涂层及其制备方法在审
| 申请号： | 202010526583.7 | 申请日： | 2020-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN111501014A | 公开（公告）日： | 2020-08-07 |
| 发明（设计）人： | 吴泽;刘磊;邢佑强 | 申请（专利权）人： | 东南大学 |
| 主分类号： | C23C16/34 | 分类号： | C23C16/34;C23C16/455 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 210096 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 ndgan 硬质 涂层 及其 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种纳米晶NdGaN硬质涂层，其特征在于：涂层基体的主要成分为NdN，添加相为Ga。
2.根据权利要求1所述的一种纳米晶NdGaN硬质涂层，特别地，其主要成分NdN以纳米晶体结构存在，NdN晶体的平均粒径为5nm左右。
3.根据权利要求1所述的一种纳米晶NdGaN硬质涂层，特别地，其整体厚度为0.6～1.0μm。
4.根据权利要求1所述的一种纳米晶NdGaN硬质涂层，特别地，添加相Ga元素沿涂层外表面能够生成致密的GaO薄膜，GaO具有优良的润滑性。
5.根据权利要求1所述的一种纳米晶NdGaN硬质涂层，其制备方法的特征为：采用原子层沉积的方法，通过铷源、镓源和氮源的自限制化学反应在工程表面逐层沉积NdGaN涂层。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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