[发明专利]纳米合金材料的制作方法、纳米合金材料及电子产品在审
| 申请号： | 202010522639.1 | 申请日： | 2020-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN111534795A | 公开（公告）日： | 2020-08-14 |
| 发明（设计）人： | 夏祥国;李林军;任诗举 | 申请（专利权）人： | 深圳市乐工新技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/16 | 分类号： | C23C14/16;C23C28/02;F21V21/002;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 深圳众邦专利代理有限公司 44545 | 代理人： | 崔亚军 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市光明区凤凰街道*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 纳米 合金材料 制作方法 电子产品 | ||
1.一种纳米合金材料的制作方法，其特征在于，包括：
提供一铝箔薄膜层，该铝箔薄膜层的厚度大于或者等于10微米，且小于或者等于100微米；
在铝箔薄膜层的表面上进行气相沉积，在表面上形成至少一可焊接金属层，该可焊接金属层的厚度大于或者等于0.05微米，且小于或者等于15微米。
2.如权利要求1所述的纳米合金材料的制作方法，其特征在于，所述可焊接金属层是由铜、镍、锌、铟、锡、银、金、镁中的任意一种或者多种金属形成的金属层或者任意两种和两种以上的金属形成的合金层。
3.如权利要求2所述的纳米合金材料的制作方法，其特征在于，所述可焊接金属层是由铜或者铜与镍、锌、铟、锡、银、金、镁的合金形成。
4.如权利要求1所述的纳米合金材料的制作方法，其特征在于，所述金属层以真空镀膜的方式形成。
5.如权利要求4所述的纳米合金材料的制作方法，其特征在于，所述金属层以溅射的方式形成，其工艺条件为真空度0.01Pa-0.5Pa，连续卷绕式镀速为0.01-300米/分钟，电流为1A-50A，电压为200V-700V。
6.如权利要求1所述的纳米合金材料的制作方法，其特征在于，在铝箔薄膜层的表面上形成至少一可焊接金属层的具体步骤包括：
对铝箔薄膜层的表面进行真空电镀，真空电镀的金属层的厚度大于或者等于0.1微米，且小于或者等于1微米；
对真空电镀后的材料进行水电镀，水电镀的金属层的厚度大于或者等于1微米，且小于或者等于10微米。
7.一种由权利要求1-6中的任一项所述的方法制得的纳米合金材料。
8.如权利要求7所述的纳米合金材料，其特征在于，该纳米合金材料包括铝箔薄膜层及形成于铝箔薄膜层一表面的至少一可焊接金属层。
9.如权利要求8所述的纳米合金材料，其特征在于，所述可焊接金属层的层数为1-3层，不同层可焊接金属层的厚度相同或不相同，不同层可焊接金属层的材质相同或不相同。
10.一种电子产品，包括电子产品本体，其特征在于，安装于所述电子产品本上的如权利要求7-9任意一项所述的纳米合金材料。
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