[发明专利]衍射光学元件的设计方法、衍射光学元件及设计系统有效
| 申请号： | 202010518114.0 | 申请日： | 2020-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN111913299B | 公开（公告）日： | 2022-04-08 |
| 发明（设计）人： | 冯辉;赵辉 | 申请（专利权）人： | 嘉兴驭光光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00;G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京律和信知识产权代理事务所(普通合伙) 11446 | 代理人： | 郝文博 |
| 地址： | 314500 浙江省嘉*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 衍射 光学 元件 设计 方法 系统 | ||
1.一种衍射光学元件的设计方法，其特征在于，包括以下步骤：
S101：获得目标平面上的第一光场图案；
S102：将所述目标平面上的第一光场图案转换为球面上的第二光场图案；
S103：对所述球面上的第二光场图案的缺失点进行补偿，并匹配灰度值，从而得到修正后的第三光场图案；和
S104：根据所述第三光场图案，计算得到所述衍射光学元件的相位分布。
2.如权利要求1所述的方法，其中所述步骤S101包括：使用一个像素的线宽绘制所述第一光场图案。
3.如权利要求1或2所述的方法，其中所述步骤S102包括：根据所述衍射光学元件的工作距离和视场角进行计算，将所述目标平面上的第一光场图案转换为所述球面上的第二光场图案。
4.如权利要求1或2所述的方法，其中所述步骤S102还包括：通过坐标变换和灰度补偿将所述目标平面上的第一光场图案转换为所述球面上的第二光场图案。
5.如权利要求1或2所述的方法，其中所述步骤S103包括：对所述球面上的第二光场图案中的线段中间的断点进行填充。
6.如权利要求1或2所述的方法，其中所述步骤S103包括：对所述球面上的第二光场图案中的多条线段相交处的断点进行填充。
7.如权利要求1或2所述的方法，其中所述步骤S103包括：通过所述缺失点的相邻点的灰度值计算所述缺失点的灰度值。
8.如权利要求1或2所述的方法，其中所述步骤S103包括：通过绘图软件或人工的方式进行补偿。
9.一种衍射光学元件，通过如权利要求1-8中任一项所述的方法设计。
10.一种衍射光学元件的设计系统，包括：
生成目标平面上的第一光场图案的单元；
将所述目标平面上的第一光场图案转换为球面上的第二光场图案的单元；
对所述球面上的第二光场图案的缺失点进行补偿并匹配灰度值、从而得到修正后的球面上的第三光场图案的单元；和
根据所述修正后的球面上的第三光场图案计算得到所述衍射光学元件的相位分布的单元。
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