[发明专利]制造涂覆交织基底的方法，涂覆物品以及可植入医疗装置

权利要求书

1.一种用于在化学沉积反应器中制造涂覆的交织基底的方法，所述方法包括：

获得化学沉积反应器，所述化学沉积反应器具有由反应室形成的并且被配置成至少部分地接收由流体可渗透材料制成的基底固持器(100)的反应空间(101)，在所述基底固持器上安装有交织基底(10)，使得所述基底的第一表面(10A)面向所述反应空间(101)，并且将所述基底的第二表面(10B)抵靠所述基底固持器(100)放置，以及

在若干沉积循环中，在所述第一表面(10A)上形成第一涂层(1)和/或在所述第二表面(10B)上形成第二涂层(2)，

其中，每个沉积循环包括用流体流将前体化学物递送到所述反应空间(101)中，使得将至少一种前体化学物递送到所述反应空间(101)中经由所述流体可渗透材料发生。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述基底固持器(100)具有基本中空内部(102)，所述至少一种前体化学物被接收到所述基本中空内部内。

3.根据权利要求1或2中任一项所述的方法，其中，所述沉积循环包括将至少两种预定前体化学物递送到所述反应空间(101)中，从而遍及所述基底(10)的所述第一表面(10A)和/或遍及所述基底的所述第二表面(10B)产生沉积层(AB，AB1，AB2)。

4.根据前述任一项权利要求所述的方法，其中，将第一预定前体化学物经由所述反应室递送到所述反应空间(101)中并且将第二预定前体化学物经由所述流体可渗透基底固持器(100)递送到所述反应空间(101)中。

5.根据前述任一项权利要求所述的方法，其中，将所述前体化学物以顺序、暂时分开的脉冲，任选地与用惰性流体吹扫所述反应空间(101)交替递送到所述反应空间(101)中。

6.根据前述任一项权利要求所述的方法，其中，通过在与将前体化学物递送到所述反应空间(101)中的方向基本上相反的方向上产生惰性流体的逆流流动来实现将所述前体化学物中的任一种递送到所述反应空间(101)中。

7.根据前述任一项权利要求所述的方法，其中，所述第一涂层(1)和所述第二涂层(2)中的任一个是由遍及所述基底(10)的所述第一表面(10A)和/或遍及所述基底的所述第二表面(10B)沉积的所述至少一个沉积层(AB，AB1，AB2)形成的。

8.根据前述任一项权利要求所述的方法，其中，形成所述第一涂层(1)的所述沉积层与形成所述第二涂层(2)的所述沉积层至少由于其组成而不同。

9.根据前述任一项权利要求所述的方法，其中，通过调整经由所述反应室和/或经由所述流体可渗透基底固持器(100)流入所述反应空间(101)的流体压力来调节所述涂层(1，2)在所述第一表面和/或所述第二表面上的选择性形成。

10.根据前述任一项权利要求所述的方法，其中，所述基底固持器(100)由选自由多孔金属、多孔陶瓷和多孔聚合物组成的组的流体可渗透材料制成。

11.根据前述任一项权利要求所述的方法，其中，所述基底固持器(100)是基本管状结构。

12.根据前述任一项权利要求所述的方法，其中，所述交织基底(10)是由网格或网形成的基本管状结构。

13.根据前述任一项权利要求所述的方法，其中，所述交织基底(10)是可植入医疗装置，诸如支架或导管，或形成这样的装置的一部分。

14.根据前述任一项权利要求所述的方法，其中，将所述涂层(1，2)用原子层沉积(ALD)沉积到所述交织基底(10)上。