[发明专利]液处理装置、液处理方法以及存储介质

说明书

本发明提供一种对于缩短处理液的送液时间有效的液处理装置、液处理方法以及存储介质。液处理装置具备：至少三个泵，其分别进行接收处理液的接收动作和将接收到的处理液向同一管路喷出的喷出动作；后级泵，其进行接收被喷出到同一管路的处理液的接收动作和喷出接收到的处理液的喷出动作；以及送液控制部，其重复进行以下控制：使三个泵中的任意两个泵执行喷出动作，以及使喷出了处理液的两个泵按照顺序执行接收动作。

技术领域

本公开涉及一种液处理装置、液处理方法以及存储介质。

背景技术

在专利文献1中公开了一种基板处理装置，其具备：处理容器，其贮存处理液；喷出泵，其输送处理液；以及送入泵，其从处理容器吸引处理液，并将吸引出的处理液送入喷出泵。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2017-147369号公报

发明内容

发明要解决的问题

本公开提供一种对于缩短处理液的送液时间有效的液处理装置、液处理方法以及存储介质。

用于解决问题的方案

本公开的一个侧面所涉及的液处理装置具备：至少三个泵，其分别进行接收处理液的接收动作和将接收到的处理液向同一管路喷出的喷出动作；后级泵，其进行接收被喷出到同一管路的处理液的接收动作和将接收到的处理液喷出的喷出动作；以及送液控制部，其重复进行以下控制：使三个泵中的任意两个泵执行喷出动作，以及使喷出了处理液的两个泵按照顺序执行接收动作。

发明的效果

根据本公开，能够提供一种对于缩短处理液的送液时间有效的液处理装置、液处理方法以及存储介质。

附图说明

图1是例示出基板液处理系统的概要结构的示意图。

图2是例示出液处理单元的概要结构的示意图。

图3是例示出控制部的硬件结构的框图。

图4是例示出液处理过程的流程图。

图5是例示出辅助泵的送液控制过程的流程图。

图6是例示出主泵的送液控制过程的流程图。

图7是例示出辅助泵的维护控制过程的流程图。

图8是例示出主泵的维护控制过程的流程图。

附图标记说明

2：涂布显影装置(液处理装置)；38：管路；40：主泵(后级泵)；50、50A、50B、50C：辅助泵(泵)；111：送液控制部；112：后级送液控制部；113：后级维护控制部。

具体实施方式

以下参照附图来详细说明实施方式。在说明中，对于同一要素或具有同一功能的要素赋予同一附图标记，来省略重复说明。

〔基板处理系统〕