[发明专利]笔迹显示处理方法、相关装置及笔迹互操作系统有效

专利信息
申请号: 202010499835.1 申请日: 2020-06-04
公开(公告)号: CN111638851B 公开(公告)日: 2022-02-25
发明(设计)人: 张爱明 申请(专利权)人: 科大讯飞股份有限公司
主分类号: G06F3/04883 分类号: G06F3/04883;G06F3/14
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 李晓光
地址: 230088 安徽*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 笔迹 显示 处理 方法 相关 装置 操作系统
【权利要求书】:

1.一种笔迹显示处理方法,其特征在于,包括:

将用户绘制的笔迹映射至目标分辨率的画板上,得到互动笔迹;

在显示屏上渲染显示所述画板上的互动笔迹;

将所述画板上的互动笔迹的坐标作为互动笔迹信息发送至第二终端,以使所述第二终端根据所述互动笔迹信息,在本地的目标分辨率的画板上绘制笔迹,并在显示屏上渲染画板上的互动笔迹;

其中,用于映射所述用户绘制的笔迹的画板的目标分辨率与所述本地的目标分辨率的画板的目标分辨率相同。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将用户绘制的笔迹映射至目标分辨率的画板上,得到互动笔迹,包括:

将用户绘制的笔迹的坐标映射至目标分辨率的画板上,得到互动笔迹坐标;

根据所述互动笔迹坐标,在所述目标分辨率的画板上确定出互动笔迹的轮廓;

根据预先设定的互动笔迹显示像素值,分别计算得到位于所述互动笔迹的边缘的各个像素的像素值;

将位于所述互动笔迹的边缘的各个像素的像素值设置为计算得到的像素值,以及将位于所述互动笔迹的轮廓内部的各个像素的像素值设置为预先设定的互动笔迹显示像素值,得到互动笔迹。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述根据预先设定的互动笔迹显示像素值,分别计算得到位于所述互动笔迹的边缘的各个像素的像素值,包括:

确定位于所述互动笔迹的边缘的像素的内切圆,以及确定所述内切圆的目标直径;其中,所述内切圆的目标直径为垂直于所述互动笔迹的边缘的直径;

根据所述内切圆的目标直径的被覆盖部分的长度,与所述内切圆的目标直径的长度的比值,确定所述互动笔迹对所述内切圆的覆盖比例;其中,所述内切圆的目标直径的被覆盖部分,为所述内切圆的目标直径的、位于所述互动笔迹的轮廓内部的部分;

至少根据所述互动笔迹对所述内切圆的覆盖比例,以及预先设定的互动笔迹显示像素值,计算得到该像素的像素值。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述根据预先设定的互动笔迹显示像素值,分别计算得到位于所述互动笔迹的边缘的各个像素的像素值,还包括:

确定位于所述互动笔迹的边缘的像素的外接圆,以及确定所述外接圆的目标直径;其中,所述外接圆的目标直径为垂直于所述互动笔迹的边缘的直径;

根据所述外接圆的目标直径的被覆盖部分的长度,与所述外接圆的目标直径的长度的比值,确定所述互动笔迹对所述外接圆的覆盖比例;其中,所述外接圆的目标直径的被覆盖部分,为所述外接圆的目标直径的、位于所述互动笔迹的轮廓内部的部分;

则,所述至少根据所述互动笔迹对所述内切圆的覆盖比例,以及预先设定的互动笔迹显示像素值,计算得到该像素的像素值,包括:

根据所述互动笔迹对所述内切圆的覆盖比例、所述互动笔迹对所述外接圆的覆盖比例,以及预先设定的互动笔迹显示像素值,计算得到该像素的像素值。

5.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

获取与各个互动笔迹坐标对应的书写压感值;

所述在所述目标分辨率的画板上的所述互动笔迹坐标处绘制笔迹,得到互动笔迹,包括:

根据所述互动笔迹坐标,以及与各个互动笔迹坐标对应的书写压感值,在所述目标分辨率的画板上绘制笔迹,得到互动笔迹;其中,任一互动笔迹坐标处的互动笔迹的宽度,与该互动笔迹坐标对应的书写压感值成正比;

对绘制的互动笔迹进行平滑处理。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述对绘制的互动笔迹进行平滑处理,包括:

对绘制的互动笔迹中的不同宽度的笔迹线段进行移位处理,使所述不同宽度的笔迹线段的中心位置对齐;

按照预设的像素映射函数,对经过所述移位处理后的互动笔迹的像素进行像素平滑映射处理,得到平滑处理后的互动笔迹。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于科大讯飞股份有限公司,未经科大讯飞股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010499835.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top