[发明专利]一种纳米级波带片成像分辨率测试的方法及装置

权利要求书

1.一种纳米级波带片成像分辨率测试装置，其特征在于，包括X射线光源、聚焦镜、标准分辨率板和成像探测器；其中，根据待测波带片的设计分辨率，选择匹配的成像探测器放置在该待测波带片的像平面上；根据该待测波带片的设计分辨率，选择匹配的标准分辨率板并将其放置在该待测波带片的物平面上；所述X射线光源用于经所述聚焦镜照明该标准分辨率板，透过该标准分辨率板的光线经该待测波带片成像于所述成像探测器。

2.如权利要求1所述的纳米级波带片成像分辨率测试装置，其特征在于，根据该待测波带片的半径R和最外环宽度ΔR_outer，确定该待测波带片照明所需要的数值孔径角度；根据该数值孔径角度，配置相应的X射线光源。

3.如权利要求2所述的纳米级波带片成像分辨率测试装置，其特征在于，所述X射线光源经过聚焦镜后提供的照明角度为该待测波带片的数值孔径角度的2倍。

4.如权利要求1所述的纳米级波带片成像分辨率测试装置，其特征在于，所述成像探测器的极限像素尺寸X_detector＝M*δ；其中，p为该待测波带片的物距，q为该待测波带片的像距；δ为该待测波带片的设计分辨率；所述标准分辨率板最小间隔尺寸小于该待测波带片分辨率。

5.如权利要求1所述的纳米级波带片成像分辨率测试装置，其特征在于，所述聚焦镜的出射端与所述标准分辨率板之间依次设有直通光光阑、孔径光阑；所述X射线光源为同步辐射光源或实验室X射线光源；所述聚焦镜为毛细管聚焦镜或科勒照明聚焦镜。

6.一种纳米级波带片成像分辨率测试的方法，其步骤包括：

1)根据待测波带片的半径R和最外环宽度ΔR_outer，确定该待测波带片所需要的数值孔径角度；

2)根据该数值孔径角度，配置相应的X射线光源；根据该待测波带片的设计分辨率，选择匹配的成像探测器放置在该待测波带片的像平面上；根据该待测波带片的设计分辨率，选择匹配的标准分辨率板并将其放置在该待测波带片的物平面上；

3)利用所配置X射线光源经聚焦镜照明该标准分辨率板，透过该标准分辨率板的光线经该待测波带片成像于所述成像探测器；根据所述成像探测器所得标准分辨率板图像上能够分辨的最小条纹细节确定该测得波带片的空间分辨率。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，步骤2)中，X射线光源提供的照明角度为该待测波带片的数值孔径角度的2倍。

8.如权利要求6所述的方法，其特征在于，步骤3)中，所述成像探测器的极限像素尺寸X_detector＝M*δ；其中，p为该待测波带片的物距，q为该待测波带片的像距；δ为该待测波带片的设计分辨率；所述标准分辨率板最小间隔尺寸小于该待测波带片分辨率。

9.如权利要求6所述的方法，其特征在于，根据所述成像探测器上该待测波带片的聚焦光斑内光子强度相对该待测波带片透射光强的百分比作为该待测波带片的衍射效率。

10.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述X射线光源为同步辐射光源或实验室X射线光源；所述聚焦镜为毛细管聚焦镜或科勒照明聚焦镜。