[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 202010490048.0 申请日: 2020-06-02
公开(公告)号: CN112054019A 公开(公告)日: 2020-12-08
发明(设计)人: 田畑光晴 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L27/06;H01L29/739;H01L29/861;H02M7/487;H02M7/5387
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 何立波;张天舒
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 半导体 装置
【权利要求书】:

1.一种半导体装置,其具有半导体芯片部,该半导体芯片部包含第1半导体芯片,该第1半导体芯片具有相对的第1主面及第2主面,在所述第1主面规定的第1元件区域形成有第1开关元件,在所述第1主面规定的第2元件区域形成有第1二极管元件,

所述第1开关元件包含:

第1发射极层,其形成于所述第1主面侧;

第1集电极层,其形成于所述第2主面侧;

第1栅极电极,其形成于所述第1主面侧;以及

第1电极膜,其形成为与所述第1发射极层接触,

所述第1二极管元件包含:

第1阳极层,其形成于所述第1主面侧;

第1阴极层,其形成于所述第2主面侧;以及

第2电极膜,其形成为与所述第1阳极层接触,

所述第1开关元件的所述第1电极膜、所述第1二极管元件的所述第2电极膜隔开距离,

该半导体装置具有配线导体,该配线导体包含将所述第1电极膜和所述第2电极膜电连接的部分,该配线导体具有阻抗。

2.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,

所述第1电极膜和所述第2电极膜是以位于隔开所述距离的所述第1电极膜和所述第2电极膜之间的部分的图案具有弯曲的部分的方式形成的。

3.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,

该半导体装置具有保护环区域,该保护环区域是以包围所述第1元件区域及所述第2元件区域的方式沿所述第1半导体芯片的外周形成的,

所述保护环区域包含各自沿第1方向延伸并且在与所述第1方向交叉的第2方向隔开距离而相对的第1外周部及第2外周部,

所述第1元件区域包含第1元件区域第1部分和第1元件区域第2部分,

在所述第1元件区域第1部分形成有作为所述第1开关元件的第1开关元件第1部分,

在所述第1元件区域第2部分形成有作为所述第1开关元件的第1开关元件第2部分,

所述第1开关元件第1部分包含作为所述第1电极膜的第1电极膜第1部分,

所述第1开关元件第2部分包含作为所述第1电极膜的第1电极膜第2部分,

所述第1电极膜第1部分配置为沿所述第1方向与所述第1外周部相对,

所述第1电极膜第2部分配置为沿所述第1方向与所述第2外周部相对,

在所述第1电极膜第1部分与所述第1电极膜第2部分之间配置有所述第2电极膜。

4.根据权利要求3所述的半导体装置,其中,

如果将所述第1外周部的所述第1方向的长度设为第1长度,

将所述第1电极膜第1部分的所述第1方向的长度设为第2长度,

则所述第2长度设定为大于或等于所述第1长度的三分之二。

5.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,

该半导体装置具有保护环区域,该保护环区域是以包围所述第1元件区域及所述第2元件区域的方式沿所述第1半导体芯片的外周形成的,

所述保护环区域包含各自沿第1方向延伸并且在与所述第1方向交叉的第2方向隔开距离而相对的第1外周部及第2外周部,

所述第2元件区域包含第2元件区域第1部分和第2元件区域第2部分,

在所述第2元件区域第1部分形成有作为所述第1二极管元件的第1二极管元件第1部分,

在所述第2元件区域第2部分形成有作为所述第1二极管元件的第1二极管元件第2部分,

所述第1二极管元件第1部分包含作为所述第2电极膜的第2电极膜第1部分,

所述第1二极管元件第2部分包含作为所述第2电极膜的第2电极膜第2部分,

所述第2电极膜第1部分配置为沿所述第1方向与所述第1外周部相对,

所述第2电极膜第2部分配置为沿所述第1方向与所述第2外周部相对,

在所述第2电极膜第1部分和所述第2电极膜第2部分之间配置有所述第1电极膜。

6.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,

该半导体装置具有保护环区域,该保护环区域是以包围所述第1元件区域及所述第2元件区域的方式沿所述第1半导体芯片的外周形成的,

所述第2电极膜不与所述保护环区域相对,

所述第1电极膜与所述保护环区域相对。

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