[发明专利]一种纳米银原位法消毒抗菌无纺布及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种纳米银原位法消毒抗菌无纺布，包括无纺布层(1)，其特征在于：

所述无纺布层(1)的上表面和下表面分别附着粘接有上侧纳米银颗粒聚氨酯层(2)和下侧纳米银颗粒聚氨酯层(3)，上侧纳米银颗粒聚氨酯层(2)、无纺布层(1)和下侧纳米银颗粒聚氨酯层(3)形成由上及下依次层状叠加的复合结构，所述无纺布层(1)采用清水润湿后、上下侧表面分别附着粘结还原及氧化原料剂经恒温恒湿反应、并经蒸发烘干后上下侧表面形成上侧纳米银颗粒聚氨酯层(2)和下侧纳米银颗粒聚氨酯层(3)；

所述上侧纳米银颗粒聚氨酯层(2)和下侧纳米银颗粒聚氨酯层(3)中的纳米银颗粒均匀分布于对应的聚氨酯层中。

2.根据权利要求1所述的一种纳米银原位法消毒抗菌无纺布，其特征在于，所述无纺布层的厚度为50-250μm。

3.根据权利要求1所述的一种纳米银原位法消毒抗菌无纺布，其特征在于，所述上侧纳米银颗粒聚氨酯层(2)和下侧纳米银颗粒聚氨酯层(3)的厚度均为10-50μm。

4.根据权利要求1或3所述的一种纳米银原位法消毒抗菌无纺布，其特征在于，所述上侧纳米银颗粒聚氨酯层(2)和下侧纳米银颗粒聚氨酯层(3)中纳米银颗粒的粒径为10-30nm。

5.根据权利要求1～4任意一项权利要求所述的一种纳米银原位法消毒抗菌无纺布的制备方法，其特征在于，通过无纺布依次通过清水池、还原池、氧化池、反应箱和隧道炉，制得纳米银杀毒抗菌无纺布，具体包括以下步骤：

(1)、设备及材料准备

准备的普通无纺布，以及加工过程需要的清水池、还原池、氧化池、反应箱和隧道炉；

(2)、制备处理

a、将普通无纺布通过清水池进行润湿；

b、还原池处理

还原池中的原料及按重量比计的份量：

将润湿的无纺布通过还原池中均匀混合配比的还原原料剂中，使还原原料剂均匀附着在无纺布的两侧表面上；

c、氧化池处理

氧化池原料以及按重量比计的份量：

将附着还原原料剂的无纺布通过氧化池中均匀混合配比的氧化原料剂中，使氧化原料剂均匀附着在无纺布的两侧表面上并与还原原料剂有效混合接触；

d、反应箱处理

反应箱为恒温恒湿箱，温度控制在30-80℃，湿度控制在60-95％的区间，有利于还原原料剂与氧化原料剂反应的完全进行；

d、隧道炉处理

反应箱内，由于水性聚氨酯和乙基纤维素，生成的纳米银可以更稳固的附着在无纺布上，不易脱落，再经过80-120℃的隧道炉，将多余的水分蒸发掉，最终制备成纳米银原位法消毒抗菌无纺布。

6.根据权利要求1～4任意一项权利要求所述的一种纳米银原位法消毒抗菌无纺布的应用，其特征在于，该纳米银原位法消毒抗菌无纺布在手术衣、防护服、消毒包布、口罩、尿片、民用抹布、擦拭布、湿面巾、魔术毛巾、柔巾卷、美容用品、卫生巾、卫生护垫、一次性卫生用布、医用一次性床单、手术单以及手术桌用布中的应用。