[发明专利]多层发光量子点器件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010461592.2 申请日: 2020-05-27
公开(公告)号: CN111477759A 公开(公告)日: 2020-07-31
发明(设计)人: 管子豪;龙能文;骆意勇 申请(专利权)人: 合肥福纳科技有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/56
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 王焕
地址: 230000 安徽省合肥市新站*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 多层 发光 量子 器件 及其 制备 方法
【说明书】:

发明涉及量子点技术领域,尤其是涉及一种多层发光量子点器件及其制备方法。多层发光量子点器件,自下而上包括底电极、空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层和顶电极;所述量子点发光层包括交替设置的量子点层和缓冲层;所述电子传输层与所述量子点发光层的缓冲层相贴合。本发明通过引入缓冲层,降低空穴跃迁克服的势垒,提高器件的空穴传输速率,增加激子在量子点发光层中的复合几率,提高器件的性能;同时,将缓冲层作为多层量子点层之间的分隔层,以此来制作多层发光器件来增加发光面积,提高器件性能。

技术领域

本发明涉及量子点技术领域,尤其是涉及一种多层发光量子点器件及其制备方法。

背景技术

量子点发光二极管(QLED)发展至今,红光和绿光器件的稳定性已经基本满足商业化的标准,但蓝光QLED器件的效率和亮度还是远远落后于红光和绿光器件。

导致蓝光QLED器件效率低的原因主要有:

(1)蓝光波段的量子点粒径小,因而在合成蓝光量子点时较难控制其表面的缺陷;

(2)蓝光量子点的禁带宽度较大,尤其是HOMO能级较低,一般大于-6eV,包括红光量子点最小的HOMO能级也至少在-6eV,而目前所使用的空穴传输材料的HOMO能级一般在-5.4eV左右,导致空穴由传输层跃迁到量子点发光层时所需要克服的势垒较大,空穴很难注入到量子点层,导致器件效率低。

有鉴于此,特提出本发明。

发明内容

本发明的第一目的在于提供多层发光量子点器件,以解决现有技术中存在的器件效率低的技术问题。

本发明的第二目的在于提供多层发光量子点器件的制备方法,该制备方法操作简便,重复性好。

为了实现本发明的上述目的,特采用以下技术方案:

多层发光量子点器件,自下而上包括底电极、空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层和顶电极;

所述量子点发光层包括交替设置的量子点层和缓冲层;

所述电子传输层与所述量子点发光层的缓冲层相贴合。

在本发明的具体实施方式中,所述缓冲层为pre-PBO层。pre-PBO是指PBO前驱体,PBO为聚对苯撑苯并二噁唑纤维,是一种高性能的芳杂环聚合物,因具有高强度、高热稳定性和耐腐蚀性。另外,PBO是稀有的N型共轭聚合物,有利于注入和传导电子。因此引入pre-PBO作为缓冲层,降低空穴跃迁克服的势垒,提高器件的空穴传输速率,增加激子在量子点发光层中的复合几率,提高器件的性能;同时,将pre-PBO作为多层量子点层之间的分隔层,以此来制作多层发光器件来增加发光面积,提高器件性能。

QLED器件发光的原理为:在外加电场的驱动下,QLED中的电子和空穴分别从阴极和阳极跃迁到量子点发光层,并在量子点发光层中形成具有一定能量束缚的电中性电子-空穴对,即为:激子。激子移动到量子点发光层内合适的位置并发生辐射复合,同时所携带的能量以光子的形式进行释放。因此,电子/空穴复合的几率决定了器件逸出光子的数量。实际上,由于电子和空穴传输材料的载流子迁移率不同,注入的势垒也有差异,这就会使两种载流子不能同时注入到量子点发光层,这种不平衡的载流子注入导致其中一种载流子在发光层上过度积累,使量子点失去电中性,不利于激子的形成,导致器件效率较低。Pre-PBO具有较高的LUMO能级,本发明在电子传输层和量子点层之间加入pre-PBO,则可以增加电子注入的势垒,阻断了多余电子的注入,平衡了载流子的传输,有利于激子的形成,因而提高了器件的效率。

在本发明的具体实施方式中,所述空穴传输层与所述量子点发光层的量子点层或所述量子点发光层的缓冲层相贴合。

在本发明的具体实施方式中,所述空穴传输层与所述量子点发光层的量子点层相贴合。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥福纳科技有限公司,未经合肥福纳科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010461592.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top