[发明专利]显示基板及其制造方法、显示装置有效
申请号: | 202010457752.6 | 申请日: | 2020-05-26 |
公开(公告)号: | CN111584753B | 公开(公告)日: | 2023-04-18 |
发明(设计)人: | 梁志伟;黄睿;张永峰 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H10K50/81 | 分类号: | H10K50/81;H10K50/813;H10K71/00;H10K59/12 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 杨广宇 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 及其 制造 方法 显示装置 | ||
1.一种显示基板,其特征在于,所述显示基板包括:衬底基板,以及位于所述衬底基板的一侧的多个子像素,每个所述子像素包括:阳极层;
所述阳极层包括:位于同层且间隔设置的多个电极块,每个所述电极块远离所述衬底基板的一侧在所述衬底基板上的正投影,位于所述电极块靠近所述衬底基板的一侧在所述衬底基板上的正投影内;
每个所述电极块包括:沿远离所述衬底基板的一侧依次层叠的第一电极图案,第二电极图案,以及第三电极图案;
所述第二电极图案在所述衬底基板上的正投影位于所述第一电极图案在所述衬底基板上的正投影内,所述第三电极图案在所述衬底基板上的正投影覆盖所述第一电极图案在所述衬底基板上的正投影,且覆盖所述第二电极图案在所述衬底基板上的正投影,所述第一电极图案以及所述第三电极图案的厚度小于所述第二电极图案的厚度;
每个所述子像素还包括:发光层以及阴极层;
所述发光层位于所述阳极层远离所述衬底基板的一侧,所述发光层在所述衬底基板上的正投影覆盖相邻两个所述电极块之间的间隙,且与每个所述电极块在所述衬底基板上的正投影重叠;
所述阴极层位于所述发光层远离所述衬底基板的一侧。
2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,每个所述电极块的侧壁为平面,且每个所述电极块的侧壁与所述衬底基板的承载面之间的夹角的范围为40度至70度。
3.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述第一电极图案和所述第三电极图案的材料均为氧化铟锡,所述第二电极图案的材料为铝或银。
4.根据权利要求1至3任一所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还包括:位于所述多个子像素远离所述衬底基板的一侧的多个透镜结构;
每个所述透镜结构在所述衬底基板上的正投影覆盖一个所述子像素在所述衬底基板上的正投影。
5.一种显示基板的制造方法,其特征在于,所述方法包括:
提供一衬底基板;
在所述衬底基板的一侧形成多个子像素;
其中,每个所述子像素包括:阳极层,所述阳极层包括:位于同层且间隔设置的多个电极块,每个所述电极块远离所述衬底基板的一侧在所述衬底基板上的正投影,位于所述电极块靠近所述衬底基板的一侧在所述衬底基板上的正投影内;
所述在所述衬底基板的一侧形成多个子像素,包括:
在所述衬底基板的一侧形成阳极层;
在所述阳极层远离衬底基板的一侧形成发光层;
在所述发光层远离阳极层的一侧形成阴极层;
所述在所述衬底基板的一侧形成阳极层,包括:
在所述衬底基板的一侧依次形成第一电极层以及第二电极层;
对所述第二电极层进行图形化处理,得到多个间隔的第二电极图案,每个所述第二电极图案的侧壁与所述衬底基板的承载面之前的夹角为锐角;
对所述第一电极层进行图形化处理,得到多个间隔的第一电极图案,每个所述第二电极图案在所述衬底基板上的正投影位于一个所述第一电极图案在所述衬底基板上的正投影内;
在所述多个第二电极图案远离所述衬底基板的一侧形成第三电极层;
对所述第三电极层进行图形化处理,得到多个间隔的第三电极图案,每个所述第三电极图案在所述衬底基板上的正投影,覆盖一个所述第一电极图案在所述衬底基板上的正投影,以及一个所述第二电极图案在所述衬底基板上的正投影,所述第一电极图案以及所述第三电极图案的厚度小于所述第二电极图案的厚度。
6.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括:驱动电路以及如权利要求1至4任一所述的显示基板;
所述驱动电路用于为所述显示基板中的每个子像素提供驱动信号。
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