[发明专利]一种烹饪设备自清洁的方法、装置及烹饪设备

权利要求书

1.一种烹饪设备自清洁的方法，其特征在于，所述方法包括：

通过检测装置检测烹饪设备内腔的污渍参数，其中，所述污渍参数包括烹饪设备内腔的颗粒尺寸和烹饪设备内腔的颜色变化程度值；

根据检测到的污渍参数，判断所述烹饪设备内腔是否达到预设的清洁条件；

若达到预设的清洁条件，则根据预先存储的污渍参数和清洁模式的对应关系，确定所述烹饪设备内腔的污渍参数对应的目标清洁模式；

通过所述目标清洁模式对所述烹饪设备内腔进行清洁；

其中，所述根据预先存储的污渍参数和清洁模式的对应关系，确定所述烹饪设备内腔的污渍参数对应的目标清洁模式，包括：

根据预设的颗粒尺寸和清洁模式的第一对应关系，确定检测到的颗粒尺寸对应的第一清洁模式；

根据预设的内腔的颜色变化程度值和清洁模式的第二对应关系，确定检测到的内腔的颜色变化程度值对应的第二清洁模式；

基于预设的各清洁模式对应的优先级，将所述第一清洁模式和所述第二清洁模式中，优先级最高的清洁模式作为目标清洁模式。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据检测到的污渍参数，判断所述烹饪设备内腔是否达到预设的清洁条件，包括：

若所述颗粒尺寸不小于预设的第一阈值或所述内腔的颜色变化程度值不小于预设的第二阈值，则确定所述烹饪设备内腔达到预设的清洁条件；

否则，确定所述烹饪设备内腔未达到预设的清洁条件。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述通过检测装置检测烹饪设备内腔的污渍参数，包括：

当达到预设的检测周期时，通过检测装置检测烹饪设备内腔的污渍参数。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述通过检测装置检测烹饪设备内腔的污渍参数，包括：

在接收到用户的清洁指令时，通过检测装置检测烹饪设备内腔的污渍参数。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

若未达到预设的清洁条件，则通过预设清洁模式对所述烹饪设备内腔进行清洁。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述清洁模式包括清洁时长和清洁量，所述通过所述目标清洁模式对所述烹饪设备内腔进行清洁，包括：

通过所述目标清洁模式对应的目标清洁量，在所述目标清洁模式对应的清洁时长内对所述烹饪设备内腔进行清洁。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述若达到预设的清洁条件，则根据预先存储的污渍参数和清洁模式的对应关系，确定所述烹饪设备内腔的污渍参数对应的目标清洁模式，包括：

若达到预设的清洁条件，则通过雷达扫描装置对所述烹饪设备内腔进行扫描；

若扫描结果为所述烹饪设备内腔不存在食材，则根据预先存储的污渍参数和清洁模式的对应关系，确定所述烹饪设备内腔的污渍参数对应的目标清洁模式。

8.一种烹饪设备自清洁的装置，其特征在于，所述装置包括：

检测模块，用于检测烹饪设备内腔的污渍参数，其中，所述污渍参数包括烹饪设备内腔的颗粒尺寸和烹饪设备内腔的颜色变化程度值；

判断模块，用于根据检测到的污渍参数，判断所述烹饪设备内腔是否达到预设的清洁条件；

确定模块，用于若达到预设的清洁条件，则根据预先存储的污渍参数和清洁模式的对应关系，确定所述烹饪设备内腔的污渍参数对应的目标清洁模式；

清洁模块，用于通过所述目标清洁模式对所述烹饪设备内腔进行清洁；

其中，所述确定模块，具体用于：

根据预设的颗粒尺寸和清洁模式的第一对应关系，确定检测到的颗粒尺寸对应的第一清洁模式；

根据预设的内腔的颜色变化程度值和清洁模式的第二对应关系，确定检测到的内腔的颜色变化程度值对应的第二清洁模式；

基于预设的各清洁模式对应的优先级，将所述第一清洁模式和所述第二清洁模式中，优先级最高的清洁模式作为目标清洁模式。