[发明专利]多射束扫描电子显微镜在审
申请号: | 202010443024.X | 申请日: | 2020-05-22 |
公开(公告)号: | CN111986970A | 公开(公告)日: | 2020-11-24 |
发明(设计)人: | A.莫罕马迪-盖达里;A.亨斯特拉 | 申请(专利权)人: | FEI公司 |
主分类号: | H01J37/147 | 分类号: | H01J37/147;H01J37/20;H01J37/28 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 张凌苗;申屠伟进 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多射束 扫描 电子显微镜 | ||
多射束扫描电子显微镜。用于检查样本的可变多射束带电粒子装置包含:多射束源,其产生多个带电粒子细束;物镜;样本固持器,其用于在所述物镜和所述多射束源之间固持所述样本;以及聚焦柱,其引导所述多个带电粒子细束使得其入射到所述样本上。所述聚焦柱引导所述多个带电射束使得存在所述多个带电粒子细束的一个或多个交叉,其中每一交叉对应于所述多个带电粒子细束通过共同位置的点。所述可变多射束带电粒子装置还包含可变孔隙,其被配置成改变所述多个带电粒子细束的电流,且位于最接近于所述样本的所述一个或多个交叉的最终交叉处。
背景技术
用于检查样本的多射束带电粒子系统归因于其极大地加速样本的成像/分析过程的能力而正变得越来越合乎需要。这是归因于其能够平行地照射样本上的多个位置。此平行照射允许样本的成像和/或分析所花费的时间大幅缩短。举例来说,将花费单射束带电粒子系统24小时成像的样本可能花费196射束系统[参考:Ali Mohammadi-Gheidari,博士论文,代尔夫特理工大学,2013年]不足10分钟。然而,最新的多射束系统非常复杂且非常昂贵。确切地说,最新的多射束系统专门被设计成提供多射束功能性,且是与单射束带电粒子系统完全独立的系统。
发明内容
根据本公开的用于检查样本的可变电流多射束带电粒子装置包含:多射束源,其生成多个带电粒子细束;物镜;样本固持器,其用于将样本固持在物镜和多射束源之间;以及聚焦柱,其引导和聚焦所述多个带电粒子细束使得其入射到样本上。聚焦柱还被配置成引导所述多个带电射束使得存在所述多个带电粒子细束的一个或多个交叉。所述一个或多个交叉的每一交叉对应于所述多个带电粒子细束通过共同位置的点。所述可变电流多射束带电粒子装置还包含可变孔隙,其被配置成改变所述多个带电粒子细束的电流,且位于所述一个或多个交叉中最接近于样本的最终交叉处。
附图说明
参考附图描述具体实施方式。在图中,参考标号最左边的一个或多个数字识别所述参考标号在其中首次出现的图。不同图中的相同参考标号指示相似或相同的项。
图1示出用于检查样本的实例可变电流多射束带电粒子系统。
图2描绘用于使用可变电流多射束带电粒子系统检查样本的示例过程。
图3示出实例可变电流多射束带电粒子系统,其中聚焦柱包含助推器管。
图4示出实例可变电流多射束带电粒子系统,其中聚焦柱包含多个透镜/孔隙。
图5是将可变孔隙展示为具有小孔隙的图式。
图6是将可变孔隙展示为具有比所述小孔隙大的尺寸和/或形状的大孔隙的图式。
图7是示出在多射束模式中操作的可变电流多射束带电粒子系统的图式。
图8是示出归因于可变孔隙的平移而在单射束模式中操作的可变电流多射束带电粒子系统的图式。
图9是示出归因于细束的共同交叉的平移而在单射束模式中操作的可变电流多射束带电粒子系统的图式。
贯穿图式的多个视图,相同的参考标号表示对应的零件。
具体实施方式
公开用于检查样本的可变电流多射束带电粒子装置和系统。更确切地说,本公开包含装置和系统,其提供多射束带电粒子功能性,同时还允许多射束细束的电流选择性地变化,允许用户在单射束操作模式和多射束操作模式之间切换,校正多射束细束中的像差,或其组合。此外,可使用当前的单射束带电粒子系统/技术来实施本公开中描述的装置和系统,从而潜在地减小所公开的可变多射束带电粒子系统的成本。这使更多的科学家能够获得多射束功能性,从而潜在地显著加快未来科学创新的速度。
大体来说,在各图中,可能包含在给定实例中的元件以实线示出,而对于给定实例为任选的元件以虚线示出。然而,以实线示出的元件并非对于本公开的所有实例都是必要的,且以实线示出的元件可从特定实例省略,而不脱离本公开的范围。
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