[发明专利]特别是用于具有表面拓扑结构的钟表的部件及用于制造其的方法在审

专利信息
申请号: 202010441243.4 申请日: 2020-05-22
公开(公告)号: CN111983912A 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: M.维拉多;C.查尔邦 申请(专利权)人: 尼瓦罗克斯-法尔股份公司
主分类号: G04B17/06 分类号: G04B17/06;G04B15/14;G04D3/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张一舟;王丽辉
地址: 瑞士勒*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 特别是 用于 具有 表面 拓扑 结构 钟表 部件 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种旨在与另一部件摩擦接触的部件(1),所述部件(1)涂覆有至少部分覆盖所述部件(1)的每个表面的成整体的导电层(4),在这些表面中的至少一个上发生摩擦,所述表面被称为功能表面(2),所述功能表面(2)被多个侧表面(3)包围,所述部件(1)在其功能表面(2)上具有由一系列涂覆有所述导电层(4)的凹槽(2a)形成的纹理,所述凹槽(2a)各自在所述部件(1)的两个侧表面(3)之间延伸,使得尽管由所述功能表面(2)上的摩擦引起了磨损,但所述导电层(4)仍在所述整个部件(1)上整体保留,或在所述部件的所有面上连续。

2.如权利要求1所述的部件(1),其特征在于,在制造状态下,所述凹槽(2a)和在所述功能表面(2)上围绕所述凹槽(2a)的部分(2b)涂覆有导电层(4),所述部分(2b)上的所述层(4)在使用期间易受磨损。

3.如权利要求1或2所述的部件(1),其特征在于,所述凹槽(2a)具有包括在100nm至500nm之间的深度P。

4.如前述权利要求中任一项所述的部件(1),其特征在于,所述连续的凹槽(2a)形成周期性结构。

5.如权利要求3至4中任一项所述的部件(1),其特征在于,所述凹槽(2a)具有圆形的截面并且被浮起的部分(2b)分离,从而形成扇形的纹理。

6.如前述权利要求中任一项所述的部件(1),其特征在于,所述纹理存在于通过深反应离子蚀刻机械加工的所述至少一个部件(2)的一个侧面(8a、9b)上。

7.如前述权利要求中任一项所述的部件(1),其特征在于,所述导电层(4)是金属层。

8.如权利要求7所述的部件(1),其特征在于,所述金属层由选自金、铂、铑和钯的金属制成。

9.如前述权利要求中任一项所述的部件(1),其特征在于,在所述制造状态下,所述层(4)完全覆盖所述表面中的每个,并且其特征在于,在使用期间,所述层(4)完全覆盖所述表面中的每个,除了所述功能表面(2),层(4)从所述功能表面逐渐消失。

10.如前述权利要求中任一项所述的部件(1),其特征在于,所述部件是钟表部件。

11.如权利要求10所述的部件(1),其特征在于,所述部件(1)是旨在以固定惯性装配到摆轮的摆轮游丝。

12.如权利要求10所述的部件(1),其特征在于,所述部件(1)是以下系统之一的部件:擒纵轮(6)/擒纵叉(7)、擒纵叉(7)/圆盘。

13.如权利要求12所述的部件,其特征在于,所述功能表面形成所述擒纵轮齿的所述冲击面和/或所述锁定面。

14.如权利要求12所述的部件,其特征在于,所述功能表面形成所述擒纵叉石的所述冲击面和/或所述锁定面。

15.如权利要求12所述的部件(1),其特征在于,所述功能表面形成旨在与所述冲击销接触的所述擒纵叉的叉的角部的所述表面。

16.如前述权利要求中任一项所述的部件(1),其特征在于,所述部件(1)是硅基的。

17.一种包括根据权利要求10至16中任一项所述的部件(1)的钟表。

18.一种用于制造部件(1)的方法,其中所述方法包括以下步骤:

(a)提供坯料(10),

(b)通过所述深反应离子蚀刻工艺在所述坯料(10)上机械加工侧面(8a,9a)以生产所述部件(1),所述机械加工的侧面(8a、9a)具有所述深反应离子蚀刻工艺固有的扇形纹理,所述纹理在所述机械加工的侧面(8a、9a)上限定一组凹槽(2a),

(c)在包括在所述凹槽(2a)中的所述部件(1)的所述表面中的每个上沉积导电层(4)。

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