[发明专利]一种用于药物均匀灌装的常压灌装设备

权利要求书

1.一种用于药物均匀灌装的常压灌装设备，其结构包括电机(1)、入料斗(2)、药液均匀装置(3)、递振均衡装置(4)、螺旋输液管(5)、定量灌装装置(6)，其特征在于：

所述的药液均匀装置(3)顶部设有电机(1)，所述的电机(1)外圈上设有入料斗(2)，所述的药液均匀装置(3)底部设有递振均衡装置(4)，所述的递振均衡装置(4)底部设有螺旋输液管(5)，所述的递振均衡装置(4)下方设有定量灌装装置(6)。

2.根据权利要求1所述的一种用于药物均匀灌装的常压灌装设备，其特征在于：所述的药液均匀装置(3)由磁力活动机构(31)、药液罐(32)、磁块(33)、搅拌杆(34)、转轴(35)组成，所述的药液罐(32)内部设有转轴(35)，所述的转轴(35)外圈上排列有两组以上的搅拌杆(34)，所述的搅拌杆(34)前端设有磁块(33)，所述的药液罐(32)外圈上设有磁力活动机构(31)。

3.根据权利要求2所述的一种用于药物均匀灌装的常压灌装设备，其特征在于：所述的磁力活动机构(31)由铁磁板(31a)、基座(31b)、连接圆杆(31c)、活动板(31d)、限位板(31e)、拉簧(31f)组成，所述的基座(31b)一侧设有活动板(31d)，所述的基座(31b)另一侧设有铁磁板(31a)，所述的活动板(31d)上下两端设有限位板(31e)，所述的限位板(31e)和铁磁板(31a)之间设有连接圆杆(31c)，所述的连接圆杆(31c)外圈上设有拉簧(31f)。

4.根据权利要求1所述的一种用于药物均匀灌装的常压灌装设备，其特征在于：所述的递振均衡装置(4)由振动拨片(41)、弹簧(42)、滑杆(43)、下弹簧片(43)、上弹簧片(44)、碰撞头(45)、外环(46)、上输液管(47)组成，所述的外环(46)内部设有上输液管(47)，所述的上输液管(47)外圈上设有振动拨片(41)，所述的外环(46)外圈上设有下弹簧片(43)，所述的下弹簧片(43)外圈上设有弹簧(42)，所述的下弹簧片(43)上端设有上弹簧片(44)，所述的上弹簧片(44)上端设有碰撞头(45)。

5.根据权利要求1所述的一种用于药物均匀灌装的常压灌装设备，其特征在于：所述的定量灌装装置(6)由右翘杆(61)、复位弹簧(62)、下输液管(63)、左翘杆(64)、定量排液机构(65)、定量液罐(66)、传动排液机构(67)组成，所述的定量液罐(66)中心位置设有下输液管(63)，所述的定量液罐(66)两侧设有左翘杆(64)和右翘杆(61)，所述的左翘杆(64)和右翘杆(61)上设有复位弹簧(62)，所述的定量液罐(66)内部设有定量排液机构(65)，所述的定量液罐(66)底部设有传动排液机构(67)。

6.根据权利要求5所述的一种用于药物均匀灌装的常压灌装设备，其特征在于：所述的定量排液机构(65)由直杆(65a)、活动管(65b)、定位杆(65c)、浮板(65d)、回位弹簧(65e)、固定座(65f)组成，所述的浮板(65d)顶部设有定位杆(65c)，所述的定位杆(65c)顶部设有活动管(65b)，所述的浮板(65d)下方呈设有固定座(65f)，所述的固定座(65f)顶部设有回位弹簧(65e)，所述的固定座(65f)一侧设有直杆(65a)。

7.根据权利要求5所述的一种用于药物均匀灌装的常压灌装设备，其特征在于：所述的传动排液机构(67)由右闭合板(67a)、排液斗(67b)、排液槽(67c)、从动杆(67d)、左闭合板(67e)、支杆(67f)、闭合圆槽(67g)组成，所述的排液斗(67b)底部设有左闭合板(67e)和右闭合板(67a)，所述的左闭合板(67e)和右闭合板(67a)顶部设有从动杆(67d)和支杆(67f)，所述的左闭合板(67e)和右闭合板(67a)一端设有闭合圆槽(67g)，所述的闭合圆槽(67g)一侧设有排液槽(67c)。