[发明专利]膜层固化装置有效
| 申请号: | 202010434325.6 | 申请日: | 2020-05-21 |
| 公开(公告)号: | CN113695204B | 公开(公告)日: | 2022-10-18 |
| 发明(设计)人: | 吴天成 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号: | B05D3/06 | 分类号: | B05D3/06 |
| 代理公司: | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人: | 孙佳胤;陈丽丽 |
| 地址: | 230001 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 固化 装置 | ||
本发明涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种膜层固化装置。所述膜层固化装置其特征在于,包括:支撑台,用于承载衬底,所述衬底表面具有一膜层;光源组件,位于所述支撑台上方,所述光源组件包括朝向所述支撑台设置、且投影覆盖整个所述膜层的出光面的光源阵列,所述光源阵列包括均匀分布于所述出光面上的多个点状光源,所述光源阵列发射的光线能够均匀照射整个所述膜层,以提高所述膜层固化后的厚度分布均匀性。本发明一方面简化了所述膜层固化装置的整体结构和运行成本;另一方面,能够使得固化后所述膜层厚度分布的均匀性得到极大的改善。
技术领域
本发明涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种膜层固化装置。
背景技术
随着半导体制造工艺的不断进步,特别是最小线宽进入到20nm以下,间隙填充(gap fill)的深宽比越来越大(例如深宽比大于20),这就使得传统的化学气相沉积工艺(Chemical Vapour Deposition,CVD)在无空洞(void free)间隙填充方面面临越来越大的挑战。为了解决这一问题,FCVD(Flow-able CVD,可流动CVD)工艺被开发出来。FCVD工艺形成的薄膜具有类似液体的流动性,形成的薄膜密度接近于高密度等离子体化学气相沉积工艺(HDP CVD)形成的薄膜密度,从而可以实现从间隙底部到顶部的完全无空洞填充。
传统FCVD工艺中的固化装置内部采用长条形的光源作为固化光源,为了使得固化光均匀的照射衬底表面,需要对固化光源进行旋转。然而,安装有固化光源的灯箱通常体积大且重量重,灯箱的旋转需要强力的马达和皮带带动,这样无疑增大了工艺成本和固化装置的结构复杂度。另外,长时间的旋转还容易导致灯箱的电源接头和信号线松脱,引起机台报警。不仅如此,随着使用时间的延长,长条形的光源在发光强度和发光均匀性方面都会变差,一方面,导致固化后薄膜的均匀性较差;另一方面,当前的机台设置里并没有有效的监测和调整机制,只能通过定期更换新的光源来确保工艺的稳定进行,这无疑会降低机台产能、增加机台运行成本。
因此,如何在简化固化装置结构的同时,提高固化后膜层厚度的均匀性,是当前亟待解决的技术问题。
发明内容
本发明提供一种膜层固化装置,用于解决现有的膜层固化装置结构复杂、且固化后膜层厚度均匀性较差的问题。
为了解决上述问题,本发明提供了一种膜层固化装置,其特征在于,包括:
支撑台,用于承载衬底,所述衬底表面具有一膜层;
光源组件,位于所述支撑台上方,所述光源组件包括朝向所述支撑台设置、且投影覆盖整个所述膜层的出光面的光源阵列,所述光源阵列包括均匀分布于所述出光面上的多个点状光源,所述光源阵列发射的光线能够均匀照射整个所述膜层,以提高所述膜层固化后的厚度分布均匀性。
可选的,所述出光面为圆形;
所述光源阵列中的多个所述点状光源沿所述出光面的径向方向呈多圈圆环排布。
可选的,所述光源组件还包括位于所述光源阵列背离所述支撑台一侧的反射器,用于反射所述光源阵列发射的光线。
可选的,所述反射器的数量为多个,且多个所述反射器与多个所述点状光源一一对应。
可选的,所述光源组件还包括与多个所述点状光源一一对应的多个传感器,所述传感器用于检测与其对应的所述点状光源发射的光线的强度。
可选的,所述反射器的截面呈圆弧状,且所述反射器罩于所述点状光源上方;
所述传感器安装于所述反射器朝向所述点状光源的表面;或者,所述反射器中具有一开口,所述传感器嵌于所述开口内。
可选的,所述光源组件还包括控制器,所述控制器连接所述光源阵列与多个所述传感器,用于根据所述传感器检测到的光线的强度调整所述光源阵列中的所述点状光源的发光强度。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长鑫存储技术有限公司,未经长鑫存储技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010434325.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:烹饪器具和处理装置
- 下一篇:航煤加氢反应产物处理系统





