[发明专利]一种软件可配置的复位装置和方法在审

专利信息
申请号: 202010431480.2 申请日: 2020-05-20
公开(公告)号: CN111625075A 公开(公告)日: 2020-09-04
发明(设计)人: 杨堃;刘勤让;吕平;沈剑良;李沛杰;宋克;朱珂;张丽;徐立明;徐庆阳;刘冬培;夏云飞;丁旭;王晓雪;李晓洁 申请(专利权)人: 天津芯海创科技有限公司;天津市滨海新区信息技术创新中心
主分类号: G06F1/24 分类号: G06F1/24
代理公司: 北京植德律师事务所 11780 代理人: 唐华东
地址: 300457 天津市滨海新区天*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 软件 配置 复位 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种软件可配置的复位装置,其特征在于,用于对芯片进行复位,所述复位装置包括复位状态机和可配置复位条件寄存器,所述复位状态机被配置为按照所述可配置复位条件寄存器指定的次序进行状态跳转,在满足复位条件时,所述复位装置按照状态跳转次序在相应的状态产生复位输出,控制所述芯片内部的模块按次序完成复位操作。

2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,

所述复位状态机具有至少两个状态,每个状态对应控制至少一路复位输出信号,复位输出信号用于控制所述芯片内部的至少一个模块的复位操作;以及,

所述复位装置还包括配置接口,所述配置接口用于对所述可配置复位条件寄存器的值进行配置,所述可配置复位条件寄存器的配置值用于指示所述复位状态机的状态跳转条件,使所述复位状态机按照指定的次序进行状态跳转;

所述复位状态机用于读取所述可配置复位条件寄存器的配置值,判断满足复位条件时启动,输出至少两路复位输出信号,并按照配置值指定的次序进行状态跳转,按状态跳转次序依次释放所述至少两路复位输出信号,控制所述芯片内部的模块按次序完成复位操作。

3.根据权利要求2所述的装置,其特征在于,所述可配置复位条件寄存器包括启动寄存器和至少两个条件寄存器;以及,

所述复位状态机具体用于:在初始状态,根据启动寄存器的值判断是否启动;启动后转入第一个状态,在该状态根据对应的条件寄存器的配置值判断是否跳转到另一状态;若跳转到另一状态,在另一状态根据对应的条件寄存器的配置值判断是否继续跳转;其中,从前一状态跳转到后一状态时,释放前一状态对应的复位输出信号,使相应的模块完成复位操作。

4.根据权利要求2所述的装置,其特征在于,所述芯片为专用集成电路ASIC芯片或现场可编程逻辑门阵列FPGA芯片。

5.一种软件可配置的复位方法,其特征在于,应用于复位装置对芯片进行复位,所述复位装置包括复位状态机和可配置复位条件寄存器,所述方法包括:

步骤S1:所述复位装置的复位状态机被配置为按照所述可配置复位条件寄存器指定的次序进行状态跳转;

步骤S2:在满足复位条件时,所述复位装置按照状态跳转次序在相应的状态产生复位输出,控制所述芯片内部的模块按次序完成复位操作。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述复位状态机具有至少两个状态,每个状态对应控制至少一路复位输出信号,复位输出信号用于控制所述芯片内部的至少一个模块的复位操作;所述复位装置还包括配置接口;以及

步骤S1具体包括:所述配置接口对所述可配置复位条件寄存器的值进行配置,所述可配置复位条件寄存器的配置值用于指示所述复位状态机的状态跳转条件,使所述复位状态机按照指定的次序进行状态跳转;

步骤S2具体包括:所述复位状态机读取所述可配置复位条件寄存器的配置值,判断满足复位条件时启动,输出至少两路复位输出信号,并按照配置值指定的次序进行状态跳转,按状态跳转次序依次释放所述至少两路复位输出信号,控制所述芯片内部的模块按次序完成复位操作。

7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述可配置复位条件寄存器包括启动寄存器和多个条件寄存器,多个条件寄存器分别对应所述复位状态机的多个状态;以及

步骤S2具体包括:

所述复位状态机在初始状态,根据启动寄存器的值判断是否启动;

所述复位状态机启动后转入第一个状态,在该状态根据对应的条件寄存器的配置值判断是否跳转到另一状态;

若跳转到另一状态,在另一状态根据对应的条件寄存器的配置值判断是否继续跳转;

其中,从前一状态跳转到后一状态时,释放前一状态对应的复位输出信号,使相应的模块完成复位操作。

8.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述芯片为专用集成电路ASIC芯片或现场可编程逻辑门阵列FPGA芯片。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津芯海创科技有限公司;天津市滨海新区信息技术创新中心,未经天津芯海创科技有限公司;天津市滨海新区信息技术创新中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010431480.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top