[发明专利]孔隙率计算方法、装置和存储介质

权利要求书

1.孔隙率计算方法，其特征在于，包括以下步骤：

对待检样品成像以获得待测图像；

根据所述待测图像建立图像坐标系；

利用所建立的所述图像坐标系计算所述待测图像孔隙率；

判断所述孔隙率是否小于设定值；

若是，判定所述待检样品为合格样品。

2.如权利要求1所述的孔隙率计算方法，其特征在于：所述待测图像孔隙率的计算步骤包括：

选取二值化阈值对所述待测图像进行二值化处理，以获得二值化图像；

对所述二值化图像进行形态学运算获得目标图像，以获取全部孔隙区域与非孔隙区域；

统计所述目标图像中全部孔隙区域的像素总数；

根据所述全部孔隙区域的像素总数与所述目标图像的像素总数，计算所述待测图像的孔隙率。

3.如权利要求2所述的孔隙率计算方法，其特征在于，在获取孔隙区域与非孔隙区域的步骤之后，还包括：

获取每一孔隙区域的面积，并逐一与第一面积对比；

将小于所述第一面积的孔隙区域删除。

4.如权利要求3所述的孔隙率计算方法，其特征在于，在将小于所述面积阈值的孔隙区域删除的步骤之后，还包括：

获取所述目标图像中位于经纬线交织处的孔隙区域，并删除经纬线交织处以外区域的孔隙区域。

5.如权利要求2所述的孔隙率计算方法，其特征在于：对所述二值化图像进行形态学运算以获得目标图像的步骤包括：

对所述二值化图像进行腐蚀处理；

对经过腐蚀处理的二值化图像进行膨胀处理。

6.如权利要求2所述的孔隙率计算方法，其特征在于，所述二值化阈值的选取包括以下步骤：

设置二值化范围；

确定二值化。

7.如权利要求6所述的孔隙率计算方法，其特征在于：所述二值化的确定包括以下步骤：

线性调节二值化，直至二值化图像中任意一处为孔隙的区域随二值化的增加而减小，则选择所述孔隙区域减小前的阈值为对待测图像进行二值化处理的二值化阈值。

8.如权利要求3所述的孔隙率计算方法，其特征在于：所述第一面积阈值的确定方法为：

线性调节面积阈值，直至所述目标图像中经纬线交织处的最小孔隙区域消失，则选取所述最小孔隙区域消失前的面积为面积阈值。

9.如权利要求1所述的孔隙率计算方法，其特征在于：在判定所述待检样品为合格样品的步骤之前，还包括：

获取并计算所述目标图像中最大孔隙区域面积；

判断所述最大孔隙区域面积是否小于第二面积。

10.如权利要求9所述的孔隙率计算方法，其特征在于：获取并计算所述目标图像中最大孔隙区域的面积的步骤包括：

通过跨平台计算机视觉库输出所述最大孔隙的面积；

获取所述最大孔隙的外接矩形框的长度及宽度；

标记并显示所述最大孔隙区域。

11.如权利要求1所述的孔隙率计算方法，其特征在于：采用工业相机或远心镜头并通过打光对待检样品进行成像来获得所述待测图像。

12.如权利要求1所述的孔隙率计算方法，其特征在于：使用电子显微镜成像或光学显微镜对待检样品进行成像来获得所述待测图像。

13.一种孔隙率计算装置，其特征在于，包括：

成像模块：用于对待检样成像并获得待测图像；

坐标模块：用于根据所述待测图像建立图像坐标系；

计算模块：用于利用所建立的所述图像坐标系计算所述待测图像的孔隙率；

判断模块：用于判断所述孔隙率是否小于设定值，若是，判定所述待检样品为合格样品。