[发明专利]刻蚀气体导入机构和蚀刻机

权利要求书

1.一种刻蚀气体导入机构，其特征在于，包括：

第一电极板，所述第一电极板由中心向边缘依次至少包括第一区域、第二区域，所述第二区域围绕所述第一区域设置；以及

设置于所述第一电极板下表面的多个气孔；以及

设置在所述第一电极板上方的气道，所述气道包括主干、以及与所述主干连通的分支，所述主干设置有流量控制阀，所述分支与所述气孔连接；

其中，所述第一区域的所述气孔与第一主干连通，所述第二区域的所述气孔与所述第二主干连通，所述第一主干设置有第一流量控制阀，所述第二主干设置有第二流量控制阀，所述第一主干的介质流量大于所述第二主干的介质流量。

2.如权利要求1所述的刻蚀气体导入机构，其特征在于，所述第一区域的所述气孔的设置密度大于所述第二区域的所述气孔的设置密度。

3.如权利要求2所述的刻蚀气体导入机构，其特征在于，在任一区域内，所述气孔均匀设置，呈阵列排布。

4.如权利要求1所述的刻蚀气体导入机构，其特征在于，所述第一区域、所述第二区域的形状为矩形或椭圆形。

5.如权利要求1所述的刻蚀气体导入机构，其特征在于，所述第一电极板还包括第三区域，所述第三区域围绕所述第二区域设置，所述第三区域的所述气孔与第三主干连通，所述第三主干设置有第三流量控制阀。

6.如权利要求5所述的刻蚀气体导入机构，其特征在于，所述第三流量控制阀的打开程度小于所述第二流量控制阀的打开程度，所述第三主干的流量小于所述第二主干的流量。

7.如权利要求6所述的刻蚀气体导入机构，其特征在于，在所述第一电极板上，所述气孔均匀设置在各区域，相邻所述气孔间的间距相等。

8.如权利要求1所述的刻蚀气体导入机构，其特征在于，所述第一电极板的四个角处的气孔设置的稀疏，所述第一电极板的四个角处的流量小于所述第一主干的流量。

9.一种蚀刻机，其特征在于，包括腔体、以及设置在所述腔体上部的刻蚀气体导入机构、以及设置在所述腔体下部的抽气机构，所述刻蚀气体导入机构包括：

第一电极板，所述第一电极板由中心向边缘依次至少包括第一区域、第二区域，所述第二区域围绕所述第一区域设置；以及

设置于所述第一电极板下表面的多个气孔；以及

设置在所述第一电极板上方的气道，所述气道包括主干、以及与所述主干连通的分支，所述主干设置有流量控制阀，所述分支与所述气孔连接；

其中，所述第一区域的所述气孔与第一主干连通，所述第二区域的所述气孔与所述第二主干连通，所述第一主干设置有第一流量控制阀，所述第二主干设置有第二流量控制阀，所述第一主干的流量大于所述第二主干的流量。

10.如权利要求9所述的蚀刻机，其特征在于，所述第一电极板还包括第三区域，所述第三区域围绕所述第二区域设置，所述第三区域的所述气孔与第三主干连通，所述第三主干设置有第三流量控制阀，所述第三流量控制阀的打开程度小于所述第二流量控制阀的打开程度，所述第三主干的流量小于所述第二主干的流量。