[发明专利]多稳态、反射色连续可控的双重可擦式防伪技术及其在光信息编码领域的应用有效

专利信息
申请号: 202010425456.8 申请日: 2020-05-19
公开(公告)号: CN111423868B 公开(公告)日: 2022-12-20
发明(设计)人: 朱为宏;郑志刚;李卉君;胡宏龙 申请(专利权)人: 华东理工大学;苏州焜煌新材料科技有限公司
主分类号: C09K9/02 分类号: C09K9/02;G02F1/1333;G02F1/1337;G02F1/139
代理公司: 上海顺华专利代理有限责任公司 31203 代理人: 李鸿儒
地址: 200237 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 稳态 反射 连续 可控 双重 可擦式 防伪 技术 及其 信息 编码 领域 应用
【说明书】:

发明公开了一种具有多稳态且反射色连续可控的双重可擦式防伪新方法及光信息编码领域的应用。该方法和应用具有高热稳定性和强抗疲劳性的特点,其实现依赖于此处所公开的基于内源性手性位阻型烯桥的二芳基乙烯化合物与液晶组成的材料体系。其中基于内源性手性位阻型烯桥的二芳基乙烯具有如下结构特征:这种基于内源性手性位阻型烯桥的二芳基乙烯化合物与液晶组成的材料体系,加工简单、原料成本低、光谱色调节范围广、热稳定性及抗疲劳度优异,有望进一步广泛应用于具有良好热稳定性、强抗疲劳度的双重可擦式防伪及光信息编码领域。

技术领域

本发明属于防伪技术及光信息编码领域,具体地说,涉及具有高热稳定性、强抗疲劳度的多稳态双重可擦式防伪材料与技术及光信息编码领域的应用。

背景技术

随着科学技术的发展,防伪技术愈发容易被伪造,使得消费者难以辨别产品真伪,为了达到对高端、高附加值产品防伪的目的,往往采用将多种防伪技术复杂地结合在一起,来实现多重防伪保护,但工艺难度大、造价高、检测识别繁琐。因此亟需一种难以模仿、制备成本低、易识别的新防伪技术。传统的全息防伪技术有一个致命的缺点,容易被模板套刻,从而失去防伪功能(CN201920257827.9)。目前双层摩尔光学结构技术由于其高防伪效果而采用于高端、高价值、高附加值商品及纸币上,该技术采用双层结构,在底板上制作一幅微小图案,难以被发现,然后在这个底板上面再制作一层微透镜阵列来观察此微小图案,从而实现防伪功能,虽然难以被模仿,但制备难度较大,效率较低,因此制作成本显著提高(CN201720709372.0)。相比全息防伪技术和双层摩尔光学结构防伪技术,光致变色化合物由于其结构简单、易制备、廉价等优势,在防伪领域越来越受关注。同时,在信息存储、编码及开关等器件应用中,良好的抗疲劳性和热稳定性是必要条件(M.Irie.Chem.Rev.,2000,100(5):1683-1683)。所以具有高抗疲劳性与热稳定性的光致变色化合物在信息编码器件应用中具有很大的潜力。

光致变色(Hirshberg Y.J.Am.Chem.Soc.,1956,78:2304)现象是指化合物A在某一特定波长光照射下,发生化学或物理变化,转变为化合物B,B又可以通过加热或者在另一特定波长光照射下又回到起始态A,整个过程发生可逆转变,并伴随结构、吸收光谱以及化合物颜色的改变。近年来,有机光致变色化合物主要可以分为螺吡喃、偶氮苯、俘精酸酐和二芳基乙烯等,其中二芳基乙烯体系由于其良好的热稳定性和高抗疲劳度,逐渐成为研究热门方向。作为防伪及光信息编码领域材料,传统采用偶氮类化合物(CN201210303520.0)以及螺吡喃类化合物(CN97120274.5),但其热稳定性及抗疲劳度较差,因此急需一类高稳定、高抗疲劳度、易制备、廉价的防伪及光信息编码领域材料。

发明内容

本发明的目的是提供一种具有高热稳定性、强抗疲劳度的多稳态双重可擦式防伪材料与方法及光信息编码领域的应用。

为了实现上述目的,本发明采用的技术方案如下:

本发明的第一方面提供了一种基于内源性手性位阻型烯桥的二芳基乙烯化合物与液晶的混合物作为防伪材料及光信息编码领域的应用。

所述基于内源性手性位阻型烯桥的二芳基乙烯化合物,结构式如下所示:

所述防伪及光信息编码领域材料是基于内源性手性位阻型烯桥的二芳基乙烯化合物与液晶材料混合而成,所述基于内源性手性位阻型烯桥的二芳基乙烯化合物与液晶材料的质量比介于1:200与1:18之间。

所述液晶材料为向列相液晶、手性液晶(包括胆甾相、蓝相)、近晶相等热致液晶或层状、柱状相溶致液晶的混合物。

所述防伪材料可以进行至少二次防伪,所述光信息编码可以实现多重输入输出信号。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华东理工大学;苏州焜煌新材料科技有限公司,未经华东理工大学;苏州焜煌新材料科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010425456.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top