[发明专利]一种制作三维旋转对称微结构的一体化成型方法有效

专利信息
申请号: 202010422720.2 申请日: 2020-05-19
公开(公告)号: CN111458976B 公开(公告)日: 2021-09-07
发明(设计)人: 刘鑫;范斌;杜俊峰;边疆;雷柏平 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F7/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 制作 三维 旋转 对称 微结构 一体化 成型 方法
【权利要求书】:

1.一种制作三维旋转对称微结构的一体化成型方法,其特征在于,包含以下步骤:

步骤1、根据目标的三维旋转对称微结构(31)的中心剖面面形函数、光刻胶的曝光显影模型以及曝光剂量的旋转积分模型,设计二维掩模图形编码,并利用激光直写技术制作掩模(1);

步骤2、在基底(2)表面,均匀涂覆一层光刻胶(3);

步骤3、调整掩模(1)与基底(2)及其表面的光刻胶(3)在分离一定间隙的情况下,保持严格的平行;

步骤4、控制掩模(1)相对基底(2)及其表面的光刻胶(3)按照设定的角速度做同轴旋转运动,同时利用紫外光(4)对掩模(1)进行面曝光;

步骤5、经过显影,获得三维旋转对称微结构(31);

其中,步骤4中,经过掩模(1)的图形编码和曝光剂量旋转积分的双重作用,紫外光(4)使光刻胶(3)上形成特定的连续曝光剂量分布,经显影后获得目标微结构,从而实现三维旋转对称微结构(31)的一体化成型。

2.根据权利要求1所述的一种制作三维旋转对称微结构的一体化成型方法,其特征在于:步骤5中,根据实验结果反馈的实测面形与理想面形之差,对步骤1中掩模(1)的图形编码进行优化设计,并且重复步骤1到步骤5,可以实现三维旋转对称微结构的面形高精度控制。

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