[发明专利]带有次级锁定密封的核磁共振样品容器的封闭件和系统

权利要求书

1.一种光谱学系统，包括：

具有开口端和封闭端的核磁共振样品管；

涡轮，具有近端和远端，所述涡轮从所述涡轮的近端到远端限定空心孔，所述核磁共振样品管位于所述空心孔内，其所述封闭端和所述开口端位于所述空心孔的外部，所述涡轮具有在所述涡轮的近侧一半中的第一接触点和在所述涡轮的远侧一半中的第二接触点；

其中所述核磁共振样品管具有沉积在外表面上的材料，作为跨越所述核磁共振样品管的一部分圆周的第一带和第二带，所述第一带靠近所述核磁共振样品管的封闭端以及所述第二带靠近所述核磁共振样品管的开口端；

其中所述第一接触点接触所述第一带的至少一部分，而同时，所述第二接触点接触所述第二带的至少一部分；以及

其中，所述第二带的第一部分隐藏在所述涡轮的空心孔内以及所述第二带可见地位于所述涡轮的空心孔的外部。

2.根据权利要求1所述的光谱学系统，其中，所述两个带的一个或多个边缘与所述涡轮的近端或远端对齐。

3.根据权利要求1所述的光谱学系统，其中，所述第一接触点和第二接触点位置相距1.771英寸。

4.根据权利要求1所述的光谱学系统，其中，所述两个带跨越所述核磁共振样品管的圆周的1/4。

5.根据权利要求1所述的光谱学系统，其中，所述两个带的一个或多个边缘与所述涡轮的所述第一接触点或所述第二接触点对齐。

6.根据权利要求1所述的光谱学系统，其中，沉积在所述核磁共振样品管的外表面上的所述材料具有在0.0002英寸至0.0014英寸范围内的厚度。

7.根据权利要求1所述的光谱学系统，其中，沉积在所述核磁共振样品管的外表面上的所述材料具有大于0.15的摩擦系数。

8.根据权利要求1所述的光谱学系统，其中，沉积在所述核磁共振样品管的外表面上的所述材料包括油墨。

9.根据权利要求1所述的光谱学系统，其中，沉积在所述核磁共振样品管的外表面上的所述材料包括基于环氧树脂的油墨、催化剂和氧化硅填料。