[发明专利]大麻二酚在保护皮肤免受紫外线诱导的DNA损伤中的应用

说明书

本发明涉及大麻二酚在防止和/或减轻紫外线诱导的DNA损伤中的应用。实验证明大麻二酚能解除光损伤细胞的细胞周期阻滞，减轻紫外线诱导的DNA双链断裂损伤和DNA链内交联损伤。因此，大麻二酚对紫外线诱导的DNA损伤具有保护作用。

技术领域

本发明涉及大麻二酚在保护皮肤免受紫外线诱导的光损伤中的应用，具体涉及大麻二酚在防止和/或减轻紫外线诱导的DNA损伤中的应用。本发明还涉及用于防止和/或减轻紫外线诱导的DNA损伤的含有大麻二酚的药物或化妆品。

背景技术

紫外线(Ultraviolet,UV)存在于大自然之中，是一种肉眼看不到的光线，也是一种普遍存在的致癌物质，其对皮肤健康存在威胁。由于过度暴露于UV会引起皮肤细胞凋亡、表皮和真皮异常增生以及炎症细胞浸润，从而引发多种皮肤问题，包括皮肤灼伤、多形性日光疹、红斑狼疮以及皮肤癌等。近90％的皮肤肿瘤与紫外线暴露有关，在世界范围内，因日光性皮肤疾病所产生的经济负担逐年上升。

根据波长的不同，UV可以分为UVC(100-280nm)，UVB(280-315nm)和UVA(315-400nm)^[1]。UVC的波长较短，大部分被臭氧层吸收，一般认为UVA和UVB是造成皮肤损伤的主要因素。在日常情况下，皮肤暴露于UVA的辐射剂量远大于UVB，但在相同剂量下，UVB对皮肤的生物学影响大于UVA，UVB是皮肤急性光损伤以及皮肤肿瘤发生的主要原因^[2]。

UVB对皮肤细胞具有复杂的作用机制，UVB可以导致细胞DNA损伤，短期会引起细胞增殖降低和代谢紊乱，长期暴露会导致细胞突变、衰老和死亡。未修复突变的积累会导致细胞周期停滞以及促进恶性肿瘤的形成。

细胞周期分为细胞分裂期(M期)和间期，细胞间期分为G0期、G1期、S期与G2期。按DNA含量可将细胞周期划分为3部分，G0/G1期为合成前期，DNA含量保持二倍体；S期又称为DNA合成期，DNA在这一阶段完成复制和组装，DNA含量介于二倍体和四倍体之间；G2/M期包括合成后期和有丝分裂期，这一阶段DNA保持四倍体。UVB诱导的细胞周期阻滞通常表现为细胞周期G2/M节点功能受损^[3]。

UVB导致的DNA损伤形式主要包括碱基修饰、DNA链内和链间交联、DNA单链断裂以及DNA双链断裂。

DNA链内交联损伤是UVB所致细胞DNA损伤最常见的类型。DNA吸收UVB的光子，导致在相邻的嘧啶之间产生共价键。这种共价键可以发生在所有潜在的双嘧啶位点上(CC，CT，TC和TT，其中C是胞嘧啶，T是胸腺嘧啶)，导致形成了两种DNA光损伤产物：环丁烷嘧啶二聚体(cyclobutane pyrimidine dimers,CPDs)或在较低频率下形成(6，4)光产物(pyrimidine 6-4pyrimidone photoproducts,6-4PPs)^[4]。CPDs是最常见的DNA光损伤(占所有UVB辐射诱导DNA损伤的70％)，修复相对较慢^[5]。UVB辐射产生的CPDs主要通过核苷酸切除修复(nucleotide excision repair,NER)机制去除，然而由于NER的能力有限，急性UVB辐射诱导的所有CPDs中约有80％可以相对有效地修复，从而达到稳定水平，而其余20％的CPDs较难修复，残留在DNA上。残留的CPDs会增加基因组的不稳定性，并且干扰DNA聚合酶的功能，导致细胞中姐妹染色单体交换(sister Chromatid exchange,SCE)的发生率增加，细胞复制减慢，抑制细胞增殖活性^[6]。