[发明专利]一种太赫兹材料在审
申请号: | 202010421228.3 | 申请日: | 2020-05-18 |
公开(公告)号: | CN111499360A | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | 张晓;许荣;高林 | 申请(专利权)人: | 沪本新材料科技(上海)有限公司 |
主分类号: | C04B35/10 | 分类号: | C04B35/10;C04B35/14;C04B35/26;C04B35/622 |
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地址: | 200000 上海市嘉定区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 赫兹 材料 | ||
本发明提供一种太赫兹材料,涉及太赫兹技术领域。该太赫兹材料,包括如下重量份的原料:有机材料10‑20份、晶体材料10‑20份、抗氧化剂5‑10份、稳定剂10‑16份、氧化锆5‑10份、高阻硅5‑8份、磁性石墨烯5‑8份、耐磨剂4‑7份、二氧化硅份8‑14、三氧化二铝10‑15份、三氧化二铁7‑14份。该太赫兹材料,采用本发明的配方和方法制备的太赫兹材料,科学合理,工艺简单,便于推广,在使用上,通过抗氧化剂、耐磨剂和稳定剂可以有效的提高太赫兹材料的抗氧化性,稳定性好,同时采用高阻硅和磁性石墨烯,可以有效的提高太赫兹材料激光的吸收率。
技术领域
本发明涉及太赫兹领域,特别的为一种太赫兹材料。
背景技术
太赫兹超材料是一种人工合成仍在发展的新材料;和它相互作用的频率是太赫兹,用来研究材料的频率范围一般在0.1-10 THz.太赫兹材料的出现,使研究新器件成为可能,如:新放大器的设计,新的太赫兹传感器和相调制器的研制等,太赫兹材料是一种合成仍在发展的新材料。和它相互作用的频率是太赫兹。用来研究材料的频率范围一般定在0.1-10THz,带宽也称太赫兹隙,因为在这段频率范围内,明显未被充分利用。太赫兹频率比微波的高,但比红外和可见光的低。这种特性表示,用普通的电子元件难于影晌太赫兹辐射。电子技术能控制电子流,并很好发展了微波和无线电频率。太赫兹隙也在光学或红外,可见和紫外波长的边界。在此区域正需要很好发展透镜技术。太赫兹的波长或频率范围还出现了下列方面的要求:安全庇护,医学影像(Image),无线电通信系统,非破坏评估,化学识别,亚毫米天文学。最后,作为非离子化辐射,它没有像X-光哪样固有的危险,太赫兹材料的出现,使研究新器件成为可能;如新放大器的设计,新的太赫兹传感器和相调制器的研制等,但是现有技术中,现有的太赫兹材料会由于氧化,从而会降低太赫兹材料的使用,同时在使用上太赫兹材料不能更好的对激光进行吸收。
发明内容
本发明提供的发明目的在于提供一种太赫兹材料,在使用上,可以有效的提高太赫兹材料激光的吸收率,同时在使用上,可以有效的提高太赫兹材料的抗氧化性。
为实现以上目的,本发明通过以下技术方案予以实现:一种太赫兹材料,包括如下重量份的原料:有机材料10-20份、晶体材料10-20份、抗氧化剂5-10份、稳定剂10-16份、氧化锆5-10份、高阻硅5-8份、磁性石墨烯5-8份、耐磨剂4-7份、二氧化硅份8-14、三氧化二铝10-15份、三氧化二铁7-14份。
作为本发明进一步的方案:包括如下重量份的原料:有机材料10份、晶体材料10份、抗氧化剂5份、稳定剂10份、氧化锆5份、高阻硅5份、磁性石墨烯5份、耐磨剂4份、二氧化硅份8、三氧化二铝10份、三氧化二铁7份。
作为本发明进一步的方案:包括如下重量份的原料:有机材料15份、晶体材料15份、抗氧化剂7份、稳定剂14份、氧化锆8份、高阻硅7份、磁性石墨烯6份、耐磨剂6份、二氧化硅份11、三氧化二铝13份、三氧化二铁11份。
作为本发明进一步的方案:包括如下重量份的原料:有机材料20份、晶体材料20份、抗氧化剂10份、稳定剂16份、氧化锆10份、高阻硅8份、磁性石墨烯8份、耐磨剂7份、二氧化硅份14、三氧化二铝15份、三氧化二铁14份。
作为本发明进一步的方案:所述有机材料为TPX、PE和PTFE中的任意一种。
作为本发明进一步的方案:所述晶体材料为硅、石英和蓝宝石中的任意一种。
作为本发明进一步的方案:所述稳定剂为有机稀土、有机锡、铅盐类化合物中的任意一种。
作为本发明进一步的方案:所述抗氧化剂为人工合成抗氧化剂或者天然抗氧化剂。
一种太赫兹材料的制备方法,包括有如下步骤:
S1、按比例称取原料,称取后将原料放入搅拌机搅拌,其搅拌桨的转速为300r/min,搅拌时间为2h-3h。
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