[发明专利]显示设备

说明书

公开了显示设备，该显示设备包括：基底层；位于基底层上的像素电路层；以及位于像素电路层上的显示元件层。像素电路层包括位于显示元件层与基底层之间的凹陷处的透镜图案，显示元件层包括发光元件，并且发光元件的至少一部分与透镜图案重叠。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2019年6月19日在韩国知识产权局提交的第10-2019-0073075号韩国专利申请的优先权和权益，该专利申请的全部内容通过引用并入本文中。

技术领域

本发明的一个或多个示例性实施方式涉及显示设备。

背景技术

近来，已开发了使用具有具备高可靠性的无机晶体结构的材料制造超小型发光元件的技术以及使用发光元件制造发光器件的技术。例如，已开发了用于制造具有小到纳米级或微米级的尺寸的多个超小型发光元件的技术，以及用于使用超小型发光元件制造包括像素的各种发光器件的技术。

在本背景技术部分中公开的上述信息是为了增强对本发明的背景技术的理解，并且因此，其可包含不构成现有技术的信息。

发明内容

本发明的一个或多个示例性实施方式涉及包括多个发光元件的显示设备，该显示设备能够通过位于显示设备中的发光元件下方的透镜图案单元(例如，透镜图案)改善光学效率。然而，本发明不限于此，并且本领域的普通技术人员可从本文中描述的示例性实施方式中理解本发明的其它方面和特征。

根据一个或多个示例性实施方式，显示设备包括：基底层；位于基底层上的像素电路层；以及位于像素电路层上的显示元件层。像素电路层包括位于显示元件层与基底层之间的凹陷处的透镜图案，显示元件层包括发光元件，并且发光元件的至少一部分与透镜图案重叠。

在一个或多个示例性实施方式中，显示元件层可包括第一电极和与第一电极间隔开的第二电极，并且发光元件可位于第一电极与第二电极之间。

在一个或多个示例性实施方式中，发光元件可包括第一半导体层、包围第一半导体层的至少一部分的有源层以及与第一半导体层的类型不同类型并且包围有源层的至少一部分的第二半导体层。

在一个或多个示例性实施方式中，发光元件可包括第一端部和第二端部，第一端部包括有源层，并且第二端部不包括有源层。

在一个或多个示例性实施方式中，显示元件层可包括位于第一电极上并电连接至第一端部的第一接触电极以及位于第二电极上并电连接至第二端部的第二接触电极。

在一个或多个示例性实施方式中，像素电路层可包括多个晶体管和覆盖多个晶体管的有机层，该有机层包括透镜图案。

在一个或多个示例性实施方式中，显示元件层还可包括覆盖第一电极、第二电极和有机层的绝缘层，并且绝缘层的折射率可大于有机层的折射率。

在一个或多个示例性实施方式中，透镜图案可包括不均匀图案，并且不均匀图案可配置成不规则地反射入射光。

在一个或多个示例性实施方式中，第一电极和第二电极可不与透镜图案重叠。

在一个或多个示例性实施方式中，透镜图案的宽度可小于发光元件的长度。

在一个或多个示例性实施方式中，透镜图案可与发光元件一一对应。

在一个或多个示例性实施方式中，透镜图案的宽度可大于或等于发光元件的长度的两倍。

根据一个或多个示例性实施方式，显示设备包括：基底层；位于基底层上的像素电路层；以及位于像素电路层上的显示元件层。像素电路层包括透镜图案，该透镜图案包括多个锥状部分，显示元件层包括发光元件，并且发光元件的至少一部分与透镜图案重叠。