[发明专利]显示装置及制造该显示装置的方法在审
申请号: | 202010401048.9 | 申请日: | 2020-05-13 |
公开(公告)号: | CN111933660A | 公开(公告)日: | 2020-11-13 |
发明(设计)人: | 赵汉戈奇努莉;田宇植;吴彦锡 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 陈宇;刘灿强 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 制造 方法 | ||
1.一种显示装置,所述显示装置包括:
基底,包括显示区域和传感器区域,所述显示区域包括主像素,并且所述传感器区域包括辅助像素和透射区域;
第一像素电极和第一发光层,均位于所述主像素中;
第二像素电极和第二发光层,均位于所述辅助像素中;
对电极,一体地布置在所述显示区域和所述传感器区域中,并且限定与所述透射区域对应的开口;以及
有机图案层,围绕所述透射区域的至少一部分。
2.根据权利要求1所述的显示装置,所述显示装置还包括:无机绝缘层,位于所述基底上,并且限定与所述透射区域对应的第一孔,
其中,所述对电极位于所述第一孔的侧壁上。
3.根据权利要求2所述的显示装置,其中,所述有机图案层位于所述第一孔中。
4.根据权利要求2所述的显示装置,其中,所述对电极的所述开口小于所述第一孔。
5.根据权利要求1所述的显示装置,所述显示装置还包括:功能层,在所述第一像素电极与所述对电极之间一体地布置在所述显示区域和所述传感器区域中,并且限定与所述透射区域对应的开口,
其中,所述对电极的所述开口与所述功能层的所述开口叠置,从而形成透射孔。
6.根据权利要求1所述的显示装置,所述显示装置还包括:像素限定层,覆盖所述第一像素电极和所述第二像素电极的边缘,被构造为限定发光区域,并且包括与所述有机图案层相同的材料。
7.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述有机图案层的一侧比所述有机图案层的另一侧厚。
8.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述对电极位于所述有机图案层上,并且所述对电极的一侧比所述对电极的另一侧厚。
9.根据权利要求1所述的显示装置,所述显示装置还包括:下电极层,位于所述传感器区域中,位于所述基底与所述辅助像素的辅助薄膜晶体管之间。
10.根据权利要求1所述的显示装置,所述显示装置还包括:组件,位于所述基底的下表面上并且与所述传感器区域对应。
11.一种显示装置,所述显示装置包括:
基底,包括显示元件的像素和透射区域布置在所述基底上;
像素电极和发光层,位于所述像素中;
对电极,位于所述发光层上,并且限定与所述透射区域对应的开口;以及
有机图案层,位于所述透射区域的外围处,
其中,所述对电极位于所述有机图案层上并且具有不均匀的厚度。
12.根据权利要求11所述的显示装置,所述显示装置还包括:无机绝缘层,位于所述基底上,并且限定与所述透射区域对应的第一孔,
其中,所述对电极位于所述第一孔的侧壁上。
13.根据权利要求12所述的显示装置,其中,所述有机图案层位于所述第一孔中。
14.根据权利要求12所述的显示装置,其中,所述对电极的所述开口小于所述第一孔。
15.一种制造显示装置的方法,所述显示装置包括基底,所述基底具有包括主像素的显示区域并且具有包括辅助像素和透射区域的传感器区域,所述方法包括:
在所述基底的上表面上与所述透射区域叠置地形成牺牲金属层;
形成覆盖所述牺牲金属层并且与所述透射区域对应的初始有机图案层;
在所述初始有机图案层上形成对电极;
从所述基底的下表面朝着所述牺牲金属层发射激光束;以及
将所述牺牲金属层从所述基底剥离。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的