[发明专利]热复合的光栅制作工艺

权利要求书

1.一种热复合光栅制作工艺，其特征在于，包括

预制金属膜：选取一块对X射线具有强吸收的重金属膜和一块对X射线具有弱吸收轻金属膜，并调整重金属膜和轻金属膜至预设尺寸；其中，预制的金属膜的厚度为50-80微米；

制作复合膜：重金属膜和轻金属膜交替堆叠形成复合膜堆；

热复合：用夹具夹持复合膜堆后放置于加热炉中，加热至重金属膜和轻金属膜相互粘合，再将复合膜堆于真空环境中冷却后取出；

切割：按设定尺寸切割后的复合膜堆，得到准光栅；

封装：使用X射线弱吸收材料封装准光栅得到光栅；

复合膜堆中轻金属和重金属的熔点最低值为C1摄氏度，热复合时加热时，加热温度为C2摄氏度，其中其中C2大于C1-120度，小于C1-80度；加热时长为2小时40分钟至3小时20分钟。

2.根据权利要求1所述的热复合光栅制作工艺，其特征在于，调整重金属膜和轻金属膜至预设尺寸时，重金属膜和轻金属膜的尺寸包括厚度尺寸和平面尺寸，将每块重金属膜和轻松金属膜厚度分别压至设定值，且重金属膜和轻金属膜的平面尺寸完全相同。

3.根据权利要求1所述的热复合光栅制作工艺，其特征在于，制作复合膜时，重金属膜和轻金属膜正交堆叠在一起，单块重金属与单块轻金属的厚度之和为光栅单个周期的长度。

4.根据权利要求3所述的热复合光栅制作工艺，其特征在于，制作复合膜后，将复合膜堆的厚度压至设定值，压缩复合膜堆时，各层金属膜的厚度均匀变化。

5.根据权利要求1所述的热复合光栅制作工艺，其特征在于，用夹具夹持复合膜堆时，夹具与复合膜堆的接触面之间垫有熔点高的半导体或者陶瓷材料。

6.根据权利要求1所述的这种热复合光栅制作工艺，其特征在于，热复合时，在真空中加热复合膜堆；并在真空中冷却复合膜堆。

7.根据权利要求1所述的热复合光栅制作工艺，其特征在于，用夹具夹持复合膜堆时，夹具对复合膜堆的压力为50-80N，限制复合膜堆在加热过程中厚度发生变化。

8.根据权利要求1所述的热复合光栅制作工艺，其特征在于，切割复合膜堆时，先切割复合膜堆的边缘得到第一形状的复合膜堆，再按设定尺寸切割第一形状的复合膜堆，得到准光栅。

9.根据权利要求1所述的热复合光栅制作工艺，其特征在于，在封装过程中，利用碳素纤维材料板夹持准光栅的切割面，直至碳素纤维黏合各复合膜，完成封装。