[发明专利]一种光照辐射灌溉方法

说明书

本发明公开了一种光照辐射灌溉方法，包括触摸屏、光照传感器、PLC、施肥机，所述灌溉方法如下：将光照传感器安装于温室内，并通过光照传感器采集温室里的光照辐射量，并将采集的数据进行传输；PLC对采集的数据进行计算分析，并控制施肥机对作物进行灌溉；本发明的有益效果是：通过光照传感器采集温室里的光照辐射量；PLC对采集的数据进行计算分析，并控制施肥机对作物进行灌溉，在无土栽培技术中，解决天气的变化引起营养液(灌溉量)灌溉不均的问题；通过设计的报警模块，便于在元器件出现故障时进行报警，方便派遣工作人员及时进行检修维护。

技术领域

本发明属于温室无土栽培灌溉策略技术领域，具体涉及一种光照辐射灌溉方法。

背景技术

无土栽培，是指以水、草炭或森林腐叶土、蛭石等介质作植株根系的基质固定植株，植物根系能直接接触营养液的栽培方法。无土栽培中营养液成分易于控制，且可随时调节。在光照、温度适宜而没有土壤的地方，如沙漠、海滩、荒岛，只要有一定量的淡水供应，便可进行。无土栽培根据栽培介质的不同分为水培、雾(气)培和基质栽培。水培是指植物根系直接与营养液接触，不用基质的栽培方法。最早的水培是将植物根系浸入营养液中生长，这种方式会出现缺氧现象，严重时造成根系死亡。常采用营养液膜法的水培方式，即使一层很薄的营养液层，不断循环流经作物根系，既保证不断供给作物水分和养分，又不断供给根系新鲜氧气。

在温室无土栽培技术中，最常见的灌溉策略就是根据种植人员的经验使用时间定量灌溉。这种灌溉策略优点是利于操作、灌溉量恒定，缺点是遇到阴雨天和阳光特别充足的气候条件时，灌溉量不能随着天气的变化而变化，不利于作物的生长！

照辐射灌溉就是通过对照到温室里的光照辐射量的统计，并经过工业计算机对数据计算分析，得出灌溉时间间隔以及灌溉量总量。

在无土栽培技术中，解决天气的变化引起营养液(灌溉量)灌溉不均的问题，为此我们提出一种光照辐射灌溉方法。

发明内容

本发明的目的在于提供一种光照辐射灌溉方法，以解决上述背景技术中提出的在无土栽培技术中，解决天气的变化引起营养液(灌溉量)灌溉不均的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种光照辐射灌溉方法，包括触摸屏、光照传感器、PLC、施肥机，其中，

光照传感器采集温室里的光照辐射量；

触摸屏可设置开始时间和结束时间，辐射阈值，以及最小间隔和最大间隔；

PLC对采集的数据进行计算分析，并控制施肥机进行灌溉；

所述灌溉方法如下：

步骤一：将光照传感器安装于温室内，并通过光照传感器采集温室里的光照辐射量，并将采集的数据进行传输；

步骤二：PLC对采集的数据进行计算分析，并控制施肥机对作物进行灌溉。

作为本发明的一种优选的技术方案，还包括电磁阀、压力传感器和水泵，所述电磁阀和水泵进行联动，所述电磁阀和压力传感器连接。

作为本发明的一种优选的技术方案，所述电磁阀的线径由现场长度确定，长度＞20m时，电磁阀的线径≥2.5mm。

作为本发明的一种优选的技术方案，还包括通信模块，该通信模块用于数据之间的传输。

作为本发明的一种优选的技术方案，所述通信模块为GPRS、WIFI、ZigBee中的一种或几种。

作为本发明的一种优选的技术方案，还包括报警模块，该模块用于在出现故障时进行报警，并将报警的信号传输给终端。

作为本发明的一种优选的技术方案，所述终端为计算机端和手机端。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：