[发明专利]载置台和等离子体处理装置

权利要求书

1.一种载置台，其特征在于，具有：

由导电性材料构成的基座；

设置在所述基座上的用于载置被处理体的载置区域；

设置在所述基座上的包围所述载置区域的外周区域；

设置在所述载置区域的内部的加热器；

与所述加热器连接并延伸至所述外周区域的内部的配线层；

在所述外周区域与所述配线层的接点部连接的供电端子；和

环状的导电层，其设置在所述外周区域的内部或者设置在位于所述外周区域之外的所述外周区域的厚度方向上的其它区域，从所述外周区域的厚度方向看时所述导电层的一部分与所述供电端子重叠，

所述导电层与所述导电层以外的部位电绝缘。

2.如权利要求1所述的载置台，其特征在于：

还具有设置在所述外周区域上的聚焦环。

3.如权利要求1所述的载置台，其特征在于：

所述配线层包含水平延伸的线状图案和在与所述线状图案交叉的方向上延伸的接触孔。

4.如权利要求1所述的载置台，其特征在于：

所述导电层包含从所述外周区域的厚度方向看时不与所述供电端子重叠的部分。

5.如权利要求2所述的载置台，其特征在于：

所述导电层设置在位于所述外周区域之外的所述外周区域的厚度方向上的所述聚焦环的内部，或者所述聚焦环与所述外周区域之间。

6.如权利要求1所述的载置台，其特征在于：

所述供电端子贯通所述基座而与所述接点部连接。

7.一种载置台，其特征在于，具有：

由导电性材料构成的基座；

设置在所述基座上的用于载置被处理体的载置区域；

设置在所述基座上的包围所述载置区域且具有贯通孔的外周区域；和

环状的导电层，其设置在位于所述外周区域之外的所述外周区域的厚度方向上的其它区域，从所述外周区域的厚度方向看时所述导电层的一部分与所述贯通孔重叠，

所述导电层与所述导电层以外的部位电绝缘。

8.如权利要求7所述的载置台，其特征在于：

还具有设置在所述外周区域上的聚焦环。

9.如权利要求8所述的载置台，其特征在于：

所述导电层设置在所述聚焦环的内部。

10.一种等离子体处理装置，其特征在于，具有：

处理容器；

产生用于在所述处理容器内生成等离子体的高频电力的高频电源；

加热器电源；和

设置在所述处理容器内的载置台，

所述载置台具有：

由导电性材料构成的基座；

设置在所述基座上的用于载置被处理体的载置区域；

包围所述载置区域的外周区域；

设置在所述载置区域的内部的加热器；

与所述加热器电源连接的供电端子；

连接所述加热器和所述供电端子的配线层，所述配线层在所述载置区域中与所述加热器连接，并在所述外周区域中与所述供电端子连接；和

环状的导电层，其设置在所述外周区域的内部或者设置在位于所述外周区域之外的所述外周区域的厚度方向上的其它区域，从所述外周区域的厚度方向看时所述导电层的一部分与所述供电端子重叠，

所述导电层与所述导电层以外的部位电绝缘。