[发明专利]一种钛石膏生化除杂的方法在审
申请号: | 202010380594.9 | 申请日: | 2020-05-08 |
公开(公告)号: | CN113620624A | 公开(公告)日: | 2021-11-09 |
发明(设计)人: | 蒋旭峰 | 申请(专利权)人: | 博湃建筑科技(上海)有限公司 |
主分类号: | C04B11/00 | 分类号: | C04B11/00;C04B11/26;C01F11/46 |
代理公司: | 北京卓言知识产权代理事务所(普通合伙) 11365 | 代理人: | 王茀智;龚清媛 |
地址: | 201401 上海市奉*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 石膏 生化 方法 | ||
1.一种钛石膏生化除杂的方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1还原处理:向钛石膏中添加铁还原细菌,将钛石膏中的Fe3+还原至磁铁矿,制得钛石膏基体;
S2失水处理:钛石膏基体常温常压下失水至钛石膏基体中的含水率为5%以下;
S3磁选处理:失水后的钛石膏经磁选除去铁杂质。
2.根据权利要求1所述的钛石膏生化除杂的方法,其特征在于,所述S1还原处理中的铁还原细菌为希瓦氏菌属的Shewanellapiezotolerans WP3,所述ShewanellapiezotoleransWP3菌株在高压容器中还原钛石膏中的Fe3+。
3.根据权利要求2所述的钛石膏生化除杂的方法,其特征在于,所述S1还原处理中添加的铁还原细菌为ShewanellapiezotoleransWP3菌株的培养液,所述培养液中,ShewanellapiezotoleransWP3菌株的浓度为106~108CFU/ml,所述S1还原处理中添加的所述培养液的质量为所述钛石膏质量的5~12%。
4.根据权利要求3所述的钛石膏生化除杂的方法,其特征在于,所述S1还原处理添加的所述培养液中ShewanellapiezotoleransWP3菌株的浓度为1.5×107CFU/ml,所述培养液的质量为所述钛石膏质量的10%。
5.根据权利要求2所述的钛石膏生化除杂的方法,其特征在于,所述S1还原处理中,所述高压容器内的温度为10~15℃。
6.根据权利要求2所述的钛石膏生化除杂的方法,其特征在于,所述S1还原处理中,所述高压容器内的静水压力为1~5MPa。
7.根据权利要求2所述的钛石膏生化除杂的方法,其特征在于,所述S1还原处理中,ShewanellapiezotoleransWP3菌株与钛石膏在高压容器中的反应时间为48~72h。
8.根据权利要求1所述的钛石膏生化除杂的方法,其特征在于,所述S1还原处理中,原料钛石膏中铁含量为8~13%。
9.根据权利要求1所述的钛石膏生化除杂的方法,其特征在于,所述S2失水处理为将钛石膏基体在常温常压下静置24~48h,至钛石膏基体中的含水率为5%以下。
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