[发明专利]可测试的微器件排列结构及其制作方法、测试方法在审
| 申请号: | 202010360243.1 | 申请日: | 2020-04-30 |
| 公开(公告)号: | CN111398773A | 公开(公告)日: | 2020-07-10 |
| 发明(设计)人: | 谈江乔;柯志杰;艾国齐;刘鉴明;黄青青 | 申请(专利权)人: | 厦门乾照半导体科技有限公司 |
| 主分类号: | G01R31/26 | 分类号: | G01R31/26;G01R1/073 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 李婷婷 |
| 地址: | 361100 福建省厦门市*** | 国省代码: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 测试 器件 排列 结构 及其 制作方法 方法 | ||
1.一种可测试的微器件排列结构,其特征在于,包括:
衬底;
位于所述衬底上呈阵列排布的多个微LED芯片,每个所述微LED芯片包括第一电极和第二电极,所述第一电极和所述第二电极均位于所述微LED芯片结构背离所述衬底的一侧;
位于所述第一电极和所述第二电极背离所述衬底一侧的扩展电极,所述扩展电极用于与所述第一电极和/或所述第二电极电性连接;
其中,一个所述扩展电极同时连接2-4个微LED芯片的电极,且所述扩展电极的面积大于与其连接的微LED芯片的电极面积之和,以使得采用探针电连接两个扩展电极对微LED芯片检测时,每两个探针单独检测一个微LED芯片。
2.根据权利要求1所述的可测试的微器件排列结构,其特征在于,还包括:平坦化层和阻挡层;
所述平坦化层位于所述衬底表面,且其厚度小于或等于所述微LED芯片的厚度;
所述阻挡层位于所述平坦化层和所述微LED芯片上,且暴露出所述微LED芯片的所述第一电极和所述第二电极。
3.根据权利要求2所述的可测试的微器件排列结构,其特征在于,所述扩展电极位于所述阻挡层背离所述衬底的表面。
4.根据权利要求1-3任意一项所述的可测试的微器件排列结构,其特征在于,一个扩展电极连接两个微LED芯片的电极。
5.根据权利要求4所述的可测试的微器件排列结构,其特征在于,
呈阵列排布的多个微LED芯片每一列中包括:依次重复设置的第一微LED芯片和第二微LED芯片;
同一列中,所述第一微LED芯片的第一电极和位于其下方的第二微LED芯片的第一电极连接同一扩展电极;
所述第二微LED芯片的第二电极和位于其下方的第一微LED芯片的第二电极连接同一个扩展电极。
6.根据权利要求4所述的可测试的微器件排列结构,其特征在于,
同一行中,每个所述微LED芯片的第一电极和与其相邻的微LED芯片的第二电极连接同一个扩展电极。
7.根据权利要求1-3任意一项所述的可测试的微器件排列结构,其特征在于,一个扩展电极连接三个微LED芯片的电极;
呈阵列排布的多个微LED芯片每一列中包括:依次重复设置的第三微LED芯片、第四微LED芯片和第五微LED芯片;
其中,第i列中的第三微LED芯片的第一电极和第i-1列的第三微LED芯片和第四微LED芯片的第二电极连接同一个扩展电极;
第i列中的第三微LED芯片和第四微LED芯片的第二电极和第i+1列的第三微LED芯片的第一电极连接同一个扩展电极;
第i列中的第四微LED芯片和第五微LED芯片的第一电极与第i-1列的第五微LED芯片的第二电极连接同一个扩展电极;
第i列中的第五微LED芯片的第二电极与第i+1列的第四微LED芯片和第五微LED芯片的第一电极连接同一个扩展电极。
8.根据权利要求1-3任意一项所述的可测试的微器件排列结构,其特征在于,一个扩展电极连接四个微LED芯片的电极;
呈阵列排布的多个微LED芯片每一列中包括:依次重复设置的第六微LED芯片和第七微LED芯片;
其中,第i列中的第六微LED芯片和位于其下方的第七微LED芯片的第一电极和第i-1列的第六微LED芯片和位于其下方的第七微LED芯片的第二电极连接同一个扩展电极;
第i列中的第六微LED芯片和位于其上方的第七微LED芯片的第二电极,与第i+1列中的第六微LED芯片和位于其上方的第七微LED芯片的第一电极连接同一个扩展电极。
9.根据权利要求2所述的可测试的微器件排列结构,其特征在于,所述阻挡层的材料为光刻胶、二氧化硅、氮化硅或聚酰亚胺。
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