[发明专利]悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基体的研磨方法以及基体在审
| 申请号： | 202010349733.1 | 申请日： | 2014-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN111378416A | 公开（公告）日： | 2020-07-07 |
| 发明（设计）人： | 南久贵;岩野友洋;荒川敬太;日高敬浩 | 申请（专利权）人： | 日立化成株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人： | 杜娟 |
| 地址： | 日本国东京都千*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 悬浮液 研磨 液套剂 基体 方法 以及 | ||
1.一种悬浮液，其特征在于，含有：磨粒、具有芳香族杂环的化合物以及水，
所述磨粒含有4价金属元素的氢氧化物，
所述具有芳香族杂环的化合物包含选自咪唑、1,2-二甲基咪唑、2-甲基咪唑和咪唑-4,5-二羧酸中的至少一种。
2.一种悬浮液，其特征在于，含有：磨粒、具有芳香族杂环的化合物以及水，
所述磨粒含有4价金属元素的氢氧化物，
所述具有芳香族杂环的化合物包含选自3-氨基-1,2,4-三唑和3-氨基-5-巯基-1,2,4-三唑中的至少一种。
3.一种悬浮液，其特征在于，含有：磨粒、具有芳香族杂环的化合物以及水，
所述磨粒含有4价金属元素的氢氧化物，
所述具有芳香族杂环的化合物包含3,5-二甲基吡唑。
4.一种研磨液，含有：磨粒、具有芳香族杂环的化合物、添加剂和水，其中，所述添加剂不包括所述具有芳香族杂环的化合物，
所述磨粒含有4价金属元素的氢氧化物，
所述具有芳香族杂环的化合物包含选自咪唑、1,2-二甲基咪唑、2-甲基咪唑和咪唑-4,5-二羧酸中的至少一种。
5.一种研磨液，含有：磨粒、具有芳香族杂环的化合物、添加剂和水，其中，所述添加剂不包括所述具有芳香族杂环的化合物，
所述磨粒含有4价金属元素的氢氧化物，
所述具有芳香族杂环的化合物包含选自3-氨基-1,2,4-三唑、3-氨基-5-巯基-1,2,4-三唑中的至少一种。
6.一种研磨液，含有：磨粒、具有芳香族杂环的化合物、添加剂和水，其中，所述添加剂不包括所述具有芳香族杂环的化合物，
所述磨粒含有4价金属元素的氢氧化物，
所述具有芳香族杂环的化合物包含3,5-二甲基吡唑。
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