[发明专利]显示面板及其制作方法有效

专利信息
申请号: 202010342332.3 申请日: 2020-04-27
公开(公告)号: CN111462615B 公开(公告)日: 2022-04-08
发明(设计)人: 彭钊;吴思嘉 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: G09F9/00 分类号: G09F9/00
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 张晓薇
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 显示 面板 及其 制作方法
【说明书】:

本申请公开了一种显示面板及其制作方法。该显示面板包括第一衬底、位于该第一衬底上的反光构件、及位于该反光构件上的有机膜层;其中,该反光构件利用反光以减少该有机膜层边缘的非有机膜层残留。本申请通过将有机膜层设置在反光部件上,在图案化导电材料过程中,增强了对有机膜层边缘处光阻的曝光,从而减少导电材料的残留,解决了导电材料连残、短路的技术问题。

技术领域

本申请涉及显示领域,尤其涉及一种显示面板及其制作方法。

背景技术

随着科技水平的提高,人民对显示面板的质量要求越来越高。

现有技术中,在显示面板的制作过程中,由于膜层较多,且挖孔或信号交错较复杂,膜层会留有较大段差、坡度较大的边缘坡,在后续导电材料涂布以及图案化处理时,较大段差、坡度较大边缘坡处的光阻弱曝严重,导致光阻残留,从而导致导电材料连残、短路的技术问题。

因此,亟需一种显示面板及其制作方法以解决上述技术问题。

发明内容

本申请提供了一种显示面板及其制作方法,以解决目前在显示面板的制作过程中,由于膜层较多,且挖孔或信号交错较复杂,膜层会留有较大段差、坡度较大的边缘坡,在后续导电材料涂布以及图案化处理时,较大段差、坡度较大边缘坡处的光阻弱曝严重,导致光阻残留,从而导致导电材料连残、短路的技术问题。

为解决上述问题,本申请提供的技术方案如下:

一种显示面板,所述显示面板包括第一衬底、位于所述第一衬底上的反光构件、及位于所述反光构件上的有机膜层;

其中,所述反光构件利用反光以减少所述有机膜层边缘的非有机膜层残留。

在本申请的显示面板中,所述有机膜层覆盖所述反光构件,以及所述反光构件靠近所述有机膜层的边缘。

在本申请的显示面板中,所述反光构件包括多个第一反光部件,所述有机膜层搭接在所述第一反光部件上;

所述第一反光部件与所述显示面板的源漏极层或者栅极层同层设置。

在本申请的显示面板中,在远离所述有机膜层的方向上,所述第一反光部件的厚度逐渐减小。

在本申请的显示面板中,所述反光构件还包括多个位于所述第一反光部件上的第二反光部件,所述有机膜层搭接在所述第一反光部件及所述第二反光部件上;

所述第一反光部件与所述栅极层同层设置,所述第二反光部件与所述源漏极层同层设置;

在靠近所述有机膜层的一侧,所述第一反光部件向所述有机膜层延伸、以及凸出于所述第二反光部件。

在本申请的显示面板中,在远离所述有机膜层的方向上,所述第一反光部件的厚度逐渐减小,所述第二反光部件的厚度逐渐减小,所述第一反光部件的坡度大于所述第二反光部件的坡度。

在本申请的显示面板中,所述第一反光部件在所述有机膜层的外围间隔设置。

在本申请的显示面板中,所述有机膜层为所述显示面板的色阻层或所述显示面板的平坦层中的一种。

一种显示面板的制作方法,包括:

在第一衬底上形成反光材料层;

将所述反光材料层经图案化处理,形成反光构件;

在所述第一衬底上形成有机膜层,所述有机膜层位于所述反光构件上;

其中,所述反光构件利用反光以减少所述有机膜层边缘的非有机膜层残留。

在本申请的显示面板的制作方法中,在形成反光构件的步骤包括:

在第一衬底上依次形成第二反光材料层、及第一反光材料层;

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