[发明专利]一种基于多元矢量合成的单脉冲雷达欺骗干扰方法有效

专利信息
申请号: 202010336699.4 申请日: 2020-04-26
公开(公告)号: CN111475964B 公开(公告)日: 2023-05-19
发明(设计)人: 喻梦霞;石明磊 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20;G01S7/38;G01S7/40;G06F111/10
代理公司: 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 代理人: 陈仕超
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 多元 矢量 合成 脉冲雷达 欺骗 干扰 方法
【说明书】:

发明公开了一种基于多元矢量合成的单脉冲雷达欺骗干扰方法,涉及电子战雷达对抗技术领域,用于解决现有技术中多元矢量合成干扰实施的精确度不高的问题。本发明通过基于多元矢量合成原理的单脉冲雷达欺骗干扰技术,通过合理配置干扰天线布局和馈电参数,可使比幅法或比相法单脉冲测角雷达同时在方位角、俯仰角方向出现较大测角误差,使对方无法继续实施有效跟踪,并且通过数学模型与电磁仿真模型双重印证,从而可以极大程度地提高多元矢量合成干扰实施的精确度。

技术领域

本发明涉及电子战雷达对抗技术领域,更具体的是涉及一种基于多元矢量合成的单脉冲雷达欺骗干扰方法。

背景技术

在现代高科技战争中,电子战已经成为必不可少的重要组成部分,对电子战技术的研究直接关系到雷达技术的发展。电子干扰作为信息化战争中的杀手锏和力量的倍增器,是阻断敌指挥体系、击破敌预警体系的重要手段。特别是对于空中战场,空中制导雷达武器的存在是战斗机生存的一个重大威胁,在众多雷达跟踪制导技术中,单脉冲雷达广泛应用于军事领域,尤其是精确制导领域,单脉冲雷达由于其响应速度快、测角精度高、抗单点源干扰能力强等优势被广泛应用于各跟踪雷达系统中。

现有技术中应用较多的针对单脉冲雷达的干扰方法为多点源干扰,其中非相干多点源干扰有空射诱饵弹、拖曳式诱饵、闪烁干扰、编队干扰等,这类干扰方法虽然应用较广,但只能将对方的单脉冲雷达指引向多点源内部能量质心处,同时具有施放时机把握困难,机动性差等缺点。

而相干多点源干扰可将对方的单脉冲雷达指引向平台物理结构范围之外,而且相对于非相干多点源干扰实施更加灵活、单次施放成本低。但目前相干多点源干扰方法大多只进行单一数学模型验证,缺乏电磁仿真印证,无法模拟干扰平台散射等复杂电磁环境的干扰,无法有效保障干扰方法实施的有效性。因此,我们迫切的需要提高相干多点源干扰实施的成功率。

发明内容

基于以上问题,本发明提供了一种基于多元矢量合成的单脉冲雷达欺骗干扰方法,用于解决现有技术中多元矢量合成干扰实施的精确度不高的问题。本发明通过基于多元矢量合成原理的单脉冲雷达欺骗干扰技术,通过合理配置干扰天线布局和馈电参数,可使比幅法或比相法单脉冲测角雷达同时在方位角、俯仰角方向出现较大测角误差,使对方无法继续实施有效跟踪,并且通过数学模型与电磁仿真模型双重印证,从而可以极大程度地提高多元矢量合成干扰实施的精确度。

本发明为了实现上述目的具体采用以下技术方案:

一种基于多元矢量合成的单脉冲雷达欺骗干扰方法,包括如下步骤:

步骤S1:给定干扰平台模型、干扰天线物理模型、干扰距离、干扰天线布局和馈电参数可控信息;

步骤S2:针对单脉冲雷达测角机制建立干扰数学模型,计算理想条件下雷达产生的测角误差;

步骤S3:建立加载干扰天线的飞行器电磁仿真模型,计算仿真单脉冲雷达产生的测角误差,与步骤S2中的结果对比印证;

步骤S4:根据数学模型与电磁模型仿真的结果实施干扰,或对干扰天线布局、馈电参数进行修正后重复步骤S2-S4。

作为一种优选的方式,步骤S1中所述的干扰天线布局为天线在干扰平台上的安装位置,需要在干扰平台建立空间坐标系,天线位置使用坐标描述,所述馈电参数包括天线馈电幅值与相位信息。

作为一种优选的方式,所述干扰天线的数量大于等于三个,利用任意三个不在同一直线上的干扰天线物理模型组合进行欺骗干扰。

作为一种优选的方式,步骤S2中所述的理想条件是指忽略干扰平台对干扰信号的散射作用。

作为一种优选的方式,步骤S2中所述的单脉冲雷达测角机制包括比幅测角机制与比相测角机制,所述干扰数学模型包括单脉冲雷达和通道信号、单脉冲雷达差通道信号、单脉冲比与测角误差的数学表达式,由干扰天线坐标位置、馈电参数表示,计算理想条件下雷达产生的测角误差具体包括如下步骤:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学,未经电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010336699.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top