[发明专利]辐射探测器Be窗口去氧化处理装置及方法

权利要求书

1.一种辐射探测器Be窗口去氧化处理装置，其特征在于，包括：

样品室，内设有承载Be窗口样品的承托台；

驱动部，与所述承托台相连，用于驱动所述承托台按照预定轨迹进行移动；

脉冲激光器，发射大功率激光对所述Be窗口样品表面的氧化物进行烧蚀；

第一光学聚焦成像部，将所述脉冲激光器发射的大功率激光聚焦对准所述Be窗口样品；

飞秒及准分子激光器，发射小功率激光对烧蚀后的区域进行填充扫描产生气溶胶；

第二光学聚焦成像部，将所述飞秒及准分子激光器发射的小功率激光聚焦对准所述Be窗口样品的烧蚀区域；

送气部，与所述样品室相连通，向所述样品室内送入惰性保护气体，并将所述飞秒及准分子激光器填充扫描后产生的气溶胶吹送向所述样品室的出气口；

监测判断部，与所述样品室的出气口相连通，对所述气溶胶的元素含量情况进行监测，并根据监测结果判断是否还需要进一步烧蚀；以及

控制部，与所述驱动部、所述脉冲激光器、所述第一光学聚焦成像部、所述飞秒及准分子激光器、所述第二光学聚焦成像部、所述送气部、所述监测判断部均通信相连，根据所述监测判断部的判断结果控制所述驱动部、所述脉冲激光器、所述第一光学聚焦成像部、所述飞秒及准分子激光器、所述第二光学聚焦成像部、所述送气部的运行，

其中，在所述监测判断部的判断结果为是的情况下，所述控制部控制所述驱动部和所述脉冲激光器对相应区域进行进一步烧蚀；

所述样品室包括第一进气口、第二进气口、第一出气口和第二出气口，所述第一进气口朝向所述第一光学聚焦成像部聚焦的大功率激光对准区域，所述第二进气口朝向所述第二光学聚焦成像部聚焦的小功率激光对准区域，所述第二出气口与所述监测判断部相连通；

所述送气部包括分别与所述第一进气口和所述第二进气口相连通的第一送气单元和第二送气单元；

所述辐射探测器Be窗口去氧化处理装置还包括排气部，与所述第一出气口相连通，将吹送来的大功率激光烧蚀产生的气体排出。

2.根据权利要求1所述的辐射探测器Be窗口去氧化处理装置，其特征在于：

其中，所述脉冲激光器为1080nm脉冲激光器，所述飞秒及准分子激光器为飞秒及193nm准分子激光器。

3.根据权利要求1所述的辐射探测器Be窗口去氧化处理装置，其特征在于：

其中，所述第一光学聚焦成像部聚焦的大功率激光的对准区域应远离所述第二光学聚焦成像部聚焦的小功率激光的对准区域。

4.根据权利要求1所述的辐射探测器Be窗口去氧化处理装置，其特征在于：

其中，所述监测判断部包括：与所述样品室的出气口相连通的IPC矩管，与该IPC矩管相连通、用于分析元素含量情况的质谱仪，和根据质谱仪的分析情况判断是否还需要对检测区域进行进一步烧蚀处理的判断单元。

5.根据权利要求1所述的辐射探测器Be窗口去氧化处理装置，其特征在于，还包括：

输入显示部，与所述驱动部、所述脉冲激光器、所述第一光学聚焦成像部、所述飞秒及准分子激光器、所述第二光学聚焦成像部、所述送气部、所述监测判断部、所述控制部均通信相连，让用户输入操作指令，并进行相应信息的显示。

6.根据权利要求1所述的辐射探测器Be窗口去氧化处理装置，其特征在于：

其中，所述第一光学聚焦成像部包括准直镜、扫描振镜和聚焦镜，

所述第二光学聚焦成像部包括依次设置的激光扩束器、两组与水平方向呈45°角相对向放置的扫描振镜、激光匀束器、光阑、扫描振镜、聚焦镜。

7.一种辐射探测器Be窗口去氧化处理方法，其特征在于：

采用权利要求1至6中任意一项所述的辐射探测器Be窗口去氧化处理装置对Be窗口进行去氧化处理。