[发明专利]一种LED芯片及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202010334420.9 申请日: 2020-04-24
公开(公告)号: CN111490138A 公开(公告)日: 2020-08-04
发明(设计)人: 马拥军;邱伟 申请(专利权)人: 杭州士兰明芯科技有限公司
主分类号: H01L33/08 分类号: H01L33/08;H01L33/20;H01L33/00
代理公司: 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 代理人: 蔡纯;张靖琳
地址: 310018 浙江省杭州市杭州经*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 led 芯片 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种LED芯片,其中,包括:

衬底;

第一LED结构和第二LED结构,所述第一LED结构和第二LED结构共用所述衬底。

2.根据权利要求1所述的LED芯片,其中,所述第一LED结构包括:

位于所述衬底的第一表面上的第一外延层,所述第一外延层包括由下向上依次设置的第一半导体层、第一发光层和第二半导体层;

第一PN台阶,位于所述第一外延层中,所述第一PN台阶的第一上台阶面为所述第二半导体层,第一下台阶面为所述第一半导体层,所述第一上台阶面和所述第一下台阶面之间连接形成第一PN台阶侧面;

第一电流扩展层,位于所述第二半导体层上,覆盖部分所述第二半导体层;

第一电极,位于所述第一半导体层上,与所述第一半导体层电连接;

第二电极,与所述第一电极彼此隔离,位于所述第一电流扩展层上,通过所述第一电流扩展层与所述第二半导体层电连接;

所述第二LED结构包括:

位于所述衬底的第二表面上的第二外延层,所述第二外延层包括由上向下依次设置的第三半导体层、第二发光层和第四半导体层;

第二PN台阶,位于所述第二外延层中,所述第二PN台阶的第二上台阶面为所述第三半导体层,第二下台阶面为所述第四半导体层,所述第二上台阶面和所述第二下台阶面之间连接形成第二PN台阶侧面;

第二电流扩展层,位于所述第四半导体层下,覆盖部分所述第四半导体层;

第三电极,位于所述第三半导体层下,与所述第三半导体层电连接;

第四电极,与所述第三电极彼此隔离,位于所述第二电流扩展层下,通过所述第二电流扩展层与所述第四半导体层电连接。

3.根据权利要求2所述的LED芯片,其中,所述第一电流扩展层具有第一开口,所述第一开口暴露出部分所述第二半导体层,所述第二电极,通过所述第一开口与所述第二半导体层电连接;

所述第二电流扩展层具有第二开口,所述第二开口暴露出部分所述第四半导体层,所述第四电极通过所述第二开口与所述第四半导体层电连接。

4.根据权利要求3所述的LED芯片,其中,所述第一电极与所述第三电极彼此隔离,所述第二电极与所述第四电极彼此隔离。

5.根据权利要求3所述的LED芯片,其中,所述第一电极与所述第三电极电连接,所述第二电极与所述第四电极电连接。

6.根据权利要求4所述的LED芯片,其中,所述第一LED结构还包括:

第一钝化层,位于所述第一电极和所述第二电极上,覆盖暴露的所述第一电流扩展层、所述第一半导体层、所述第二半导体层以及所述第一PN台阶侧面,所述第一钝化层包括第三开口和第四开口,通过所述第三开口露出所述第一电极,通过所述第四开口露出所述第二电极;

所述第二LED结构还包括:

第二钝化层,位于所述第三电极和所述第四电极下,覆盖暴露的所述第二电流扩展层、所述第三半导体层、所述第四半导体层以及所述第二PN台阶侧面,所述第二钝化层包括第五开口和第六开口,通过所述第五开口露出所述第三电极,通过所述第六开口露出所述第四电极。

7.根据权利要求5所述的LED芯片,其中,所述第一LED结构和所述第二LED结构还包括:

第一导通孔,位于所述第一PN台阶的第一下台阶面和所述第二PN台阶的第二上台阶面,贯穿所述第一半导体层、所述衬底和所述第三半导体层;

第二导通孔,位于所述第一开口和所述第二开口内,贯穿所述第一半导体层、所述第一发光层、所述第二半导体层、所述第一电流扩展层、所述衬底、所述第三半导体层、所述第二发光层、所述第四半导体层和所述第二电流扩展层。

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