[发明专利]一种具有片层结构Mo2

权利要求书

1.一种具有片层结构Mo₂C助催化剂的制备方法，其特征在于：以十六胺和四水合七钼酸铵为原料，通过有机无机杂化法，经压片、高温碳化、钝化制得具有片层结构的Mo₂C。

2.按照权利要求1所述的具有片层结构Mo₂C助催化剂的制备方法，其特征在于，具体步骤为：将四水合七钼酸铵的水溶液逐滴加入到十六胺的乙醇溶液中，并以盐酸调节pH＝1～8；滴毕，转移至40～70℃加热3～8h，随后将沉淀抽滤，洗涤，干燥；将干燥好的前驱体研磨后压片，在惰性气氛的保护气存在下，碳化，再经体积比98:2～99.5:0.5，优选99:1～99.2:0.8的N₂:O₂钝化气钝化后得到具有片层结构。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：四水合七钼酸铵水溶液的浓度为0.04g/mL～0.1g/mL，优选0.05g/mL～0.07g/mL；十六胺的乙醇溶液的浓度为0.025g/mL～0.05g/mL，优选0.03g/mL～0.04g/mL；以100mL的十六胺的乙醇溶液计，滴速控制在2mL/min～5mL/min，优选3min/L～4min/L，搅拌速度控制在400rpm/min～800rpm/min，优选500rpm/min～700rpm/min，盐酸的浓度为1mol/L～2mol/L，调节pH的优选范围为1-2。

4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：加热的温度优选50℃～60℃，加热时长优选5h～6h；洗涤时以乙醇和去离子水依次分别洗涤3～5次；干燥为真空干燥，干燥温度90℃～120℃，优选100℃～110℃，时常为12h～36h，优选20h～30h。

5.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：压片时每片所取前驱体的质量为0.5g～2g，优选1g～1.5g，压片机的压力范围在20MPa～50MPa，优选25MPa～35MPa。

6.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：碳化的气氛为氩气、氦气以及氮气氛围中的一种或二种以上，流量为20ml/min～100ml/min，优选40ml/min～60ml/min；管式炉中碳化，温度在900～1000℃，优选950℃～970℃；钝化时长为6～24h，优选10h～12h。

7.一种权利要求1-6任一所述制备方法制备获得的Mo₂C。

8.根据权利要求7所述的Mo₂C，单层片的厚度在10nm～20nm，片层之间的距离为5nm～50nm。

9.一种权利要求7或8所述的Mo₂C作为催化剂的活性成份和/或载体可应用于光催化、电催化或光电催化产氢过程中。

10.根据权利要求9所述的Mo₂C的应用，将权利要求7所述的Mo₂C与CdS半导体光催化剂复合，它们质量比范围为1:100～10:100，优选3:100～7:100，可用于光催化分解水制氢过程中。