[发明专利]晶圆片腐蚀清洗笼

说明书

本发明揭示了一种晶圆片腐蚀清洗笼，包括笼体框架及驱动组件两部分组成；笼体框架由多块晶圆片隔板及多根开齿连接轴组成，多块晶圆片隔板上均开设有一条相同的滑动限位槽，多块晶圆片隔板间平行设置并连接形成一个整体，其中一根开齿连接轴可活动地按序依次穿设于多块晶圆片隔板上的滑动限位槽内；驱动组件包括至少一组传动齿轮组，每组传动齿轮组均包括一个主动齿轮及多个从动齿轮，每个从动齿轮均固定设置于一根开齿连接轴的端部，主动齿轮与从动齿轮间啮合传动。本发明通过带动晶圆片整体旋转的方式，完成了对晶圆片的腐蚀清洗，整个操作过程中晶圆片与药液接触充分，产品腐蚀均匀，有效避免了产品的二次返工、提升了产品的良率。

技术领域

本发明涉及一种加工件夹持装置，具体而言，涉及一种在晶圆片蚀刻过程中所使用的晶圆片腐蚀清洗笼，属于工业自动化技术领域。

背景技术

晶圆片又称硅晶片，是一种由硅锭加工而成的产品，在半导体、碳化硅、蓝宝石及太阳能光伏等多个行业中均有所应用。由于晶圆片特殊的结构，通过专门的处理工艺可以在晶圆片上刻蚀出数以百万计的晶体管，因此目前，晶圆片已经被广泛地应用于集成电路的加工制造中。

常规的晶圆片加工主要包括掺杂、熔融、切割、淹没、蚀刻等多个步骤，而其中，十分关键的一个生产环节就是晶圆片蚀刻。就现阶段的晶圆片蚀刻工艺而言，晶圆片的腐蚀均匀性严重制约着产品良率和生产成本，在目前的生产过程中，为了提升晶圆片表面腐蚀的均匀性，普遍的做法是在清洗槽内加装循环泵，利用循环泵的作用增加清洗槽内药液的流动性、实现药液的内部循环。

但是在实际应用后，上述技术解决方案的缺点也开始显现：第一，在清洗槽内加装循环泵、带动药液流动，这样的方式固然可行，但是会使得清洗槽的生产成本增加，不便于生产企业的大规模设备改造和应用；第二，利用循环泵的作用增加药液的流动性，这一方式缺乏必要的、规范性的技术指导，循环泵的功率、清洗槽的大小均会对该方案的实际使用效果产生影响，因此经常会出现清洗槽内药液流速不稳定的问题，

综上所述，如何在现有技术的基础上提出一种全新的、在晶圆片蚀刻过程中所使用的晶圆片腐蚀清洗笼，针对现有技术中所存在的上述诸多不足进行相应地提升和改进，也就成为了本领域内技术人员亟待解决的问题。

发明内容

鉴于现有技术存在上述缺陷，本发明提出了一种在晶圆片蚀刻过程中所使用的晶圆片腐蚀清洗笼，具体如下。

一种晶圆片腐蚀清洗笼，包括笼体框架及驱动组件两部分组成；所述笼体框架由多块晶圆片隔板及多根开齿连接轴组成，多块所述晶圆片隔板上均开设有一条相同的滑动限位槽，多块所述晶圆片隔板间平行设置并连接形成一个整体，其中一根所述开齿连接轴可活动地按序依次穿设于多块所述晶圆片隔板上的所述滑动限位槽内；所述驱动组件包括至少一组传动齿轮组，每组所述传动齿轮组均包括一个主动齿轮及多个从动齿轮，每个所述从动齿轮均固定设置于一根所述开齿连接轴的端部，所述主动齿轮与所述从动齿轮间啮合传动。

优选地，所述多块晶圆片隔板包括两块外侧隔板及多块中间隔板，多块所述中间隔板排列设置于两块所述外侧隔板之间且相邻两块所述中间隔板间的间距相等。

优选地，所述多块晶圆片隔板包括两块外侧隔板及三块中间隔板，三块所述中间隔板排列设置于两块所述外侧隔板之间且相邻两块所述中间隔板间的间距相等；两块所述外侧隔板及三块所述中间隔板之间通过一刚性连接件连接固定、形成一个整体。

优选地，所述刚性连接件为至少一根刚性轴，所述刚性轴按序依次穿过两块所述外侧隔板及三块所述中间隔板并与各块所述晶圆片隔板间固定连接。

优选地，每块所述外侧隔板及每块所述中间隔板上均开设有一条相同的滑动限位槽及两个连接轴定位孔；在所述笼体框架的组合状态下，两块所述外侧隔板及三块所述中间隔板上的滑动限位槽及连接轴定位孔在平行于其设置方向上的投影均相互重合。