[发明专利]极紫外累积辐照损伤测试系统及方法在审

专利信息
申请号: 202010328028.3 申请日: 2020-04-23
公开(公告)号: CN111504889A 公开(公告)日: 2020-08-07
发明(设计)人: 谢婉露;吴晓斌;王魁波;罗艳;李慧 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G01N17/00 分类号: G01N17/00
代理公司: 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 代理人: 付婧
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 紫外 累积 辐照 损伤 测试 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种极紫外累积辐照损伤测试系统,其特征在于,包括:EUV光源腔室(1)、收集镜腔室(3)和测试腔室(7);其中,

所述EUV光源腔室(1)用于产生EUV辐照源(2),该EUV辐照源(2)用于辐射出宽谱辐照光(4);

所述收集镜腔室(3)用于容纳反射镜(5),该反射镜(5)用于将所述宽谱辐照光(4)中的EUV光反射聚焦到所述测试腔室(7)中;

所述测试腔室(7)用于容纳在光路上依次设置的滤光片(8)、衰减片装载台(9)以及样品调节台(11);

其中,所述滤光片(8)用于将反射光中长波段光滤波,得到测试所需的窄谱辐照光;所述衰减片装载台(9)用于装载多个不同衰减倍率的衰减片(15),以对所述窄谱辐照光进行不同衰减倍率的光能量衰减;所述样品调节台(11)用于设置所要测试的样品(20),并且能控制样品(20)的移动,从而实现材料累积辐照自动控制。

2.根据权利要求1所述的测试系统,其特征在于,所述衰减片装载台(9)为包含多个通光孔(14)的电动旋转圆盘(13),不同衰减倍率的衰减片(15)按照衰减倍率顺时针从低到高的排序装载于多个通光孔(14)中。

3.根据权利要求1所述的测试系统,其特征在于,所述测试腔室(7)中还安装有能量探测器(10),该能量探测器(10)用于测试辐照光能量,在需要能量测试时调节至衰减片装载台(9)和样品调节台(11)之间的光路中,测试结束后调至光路外。

4.根据权利要求1所述的测试系统,其特征在于,所述样品调节台(11)为三维平移台,由三个一维运动导轨及样品架组合连接而成,样品调节台(11)可以设置自动控制运动方向、运动步数、运动步长、停留时间。

5.根据权利要求4所述的测试系统,其特征在于,所述样品调节台(11)包括x轴运动导轨(16)、y轴运动导轨(18)、z轴运动导轨(17)和样品架(19);其中,

所述z轴运动导轨(17)可滑动安装在所述y轴运动导轨(18)上,所述x轴运动导轨(16)可滑动安装在所述z轴运动导轨(17)上,所述样品架(19)可滑动安装在所述x轴运动导轨(16)上,该样品架(19)上固定安装所述样品(20)。

6.根据权利要求5所述的测试系统,其特征在于,所述x轴运动导轨(16)上设置有通孔(21)。

7.根据权利要求6所述的测试系统,其特征在于,所述测试腔室(7)中还安装有光斑探测器(12),该光斑探测器(12)用于测试样品表面的光斑大小,在光斑测试时调节该光斑探测器(12)至所述通孔(21)位置的样品平面。

8.根据权利要求1所述的测试系统,其特征在于,所述测试系统还包括抽真空装置,该抽真空装置分别与EUV光源腔室(1)、收集镜腔室(3)和测试腔室(7)连接,用于调节所述EUV光源腔室(1)、收集镜腔室(3)和测试腔室(7)中的气压达到所需真空度。

9.根据权利要求1所述的测试系统,其特征在于,所述测试系统还包括安装在所述收集镜腔室(3)和所述测试腔室(7)之间的电动开关快门(6),用于控制辐照光的传输或截止。

10.根据权利要求1所述的测试系统,其特征在于,所述反射镜(5)为Mo/Si多层膜椭球面反射镜。

11.根据权利要求1所述的测试系统,其特征在于,所述滤光片(8)为锆(Zr)膜结构。

12.一种材料极紫外累积辐照损伤测试方法,基于权利要求1至11任一项所述的极紫外累积辐照损伤测试系统,其特征在于,所述方法包括:

EUV光源腔室(1)产生的EUV辐照源(2)辐射出宽谱辐照光(4);

收集镜腔室(3)中的反射镜(5)将所述宽谱辐照光(4)中的EUV光反射聚焦到测试腔室(7)中;

反射光依次被所述测试腔室(7)中的滤光片(8)滤波成测试需要的窄谱辐照光,继续被衰减片装载台(9)衰减为测试需要的光能量后,到达样品调节台(11)上的样品(20)表面来进行样品测试,样品调节台(11)可以设置自动控制运动方向、运动步数、运动步长、停留时间,从而实现自动控制样品(20)的累积辐照。

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